[發(fā)明專利]磁頭浮動塊和磁頭平衡架組件的制造方法和制造設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01125271.5 | 申請日： | 2001-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN1347116A | 公開（公告）日： | 2002-05-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 橋本清司;松本真明 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號： | G11B21/21 | 分類號： | G11B21/21 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 林長安 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 磁頭 浮動 平衡 組件 制造 方法 設(shè)備 | ||
1.帶有寫入數(shù)據(jù)到旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)上和從旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)中讀取數(shù)據(jù)的磁換能器的磁頭浮動塊的制造方法，包括以下步驟：
輸入所述浮動塊的外形數(shù)據(jù)；
利用所述外形數(shù)據(jù)來計算所述浮動塊從氣浮支承表面開始的預(yù)測浮動高度；
根據(jù)所述預(yù)測浮動高度和所要目標(biāo)浮動高度之間的差別來計算出調(diào)整目標(biāo)曲率；和
將所述氣浮支承表面的曲率調(diào)整到所述目標(biāo)曲率。
2.帶有寫入數(shù)據(jù)到旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)上和從旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)中讀取數(shù)據(jù)的磁換能器的磁頭浮動塊的制造方法，包括以下步驟：
測量所述浮動塊的外形數(shù)據(jù)；
利用所述外形數(shù)據(jù)來計算所述浮動塊從氣浮支承表面開始的預(yù)測浮動高度；
根據(jù)所述預(yù)測浮動高度和所要目標(biāo)浮動高度之間的差別來計算出調(diào)整目標(biāo)曲率；和
將所述氣浮支承表面的曲率調(diào)整到所述目標(biāo)曲率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭浮動塊制造方法，其特征在于，所述浮動塊外形數(shù)據(jù)涉及階式止推支承深度、負(fù)壓槽深度、磁道寬度和氣浮支承表面曲率中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁頭浮動塊制造方法，其特征在于，所述浮動塊外形數(shù)據(jù)涉及階式止推支承深度、負(fù)壓槽深度、磁道寬度和氣浮支承表面曲率中的至少一種。
5.帶有氣浮支承表面的磁頭平衡架組件的制造方法，所述氣浮支承表面相對旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)浮動，所述磁頭平衡架組件包括帶有在所述氣浮支承表面上的磁換能器的磁頭浮動塊、用于支撐所述浮動塊的平衡架、用于支撐所述平衡架的懸臂；這種制造方法包括以下步驟：
輸入所述懸臂的外形數(shù)據(jù)；
利用所述外形數(shù)據(jù)來計算所述浮動塊的預(yù)測浮動高度；
根據(jù)所述預(yù)測浮動高度和所要目標(biāo)浮動高度之間的差別來計算出調(diào)整目標(biāo)曲率；和
將所述氣浮支承表面的曲率調(diào)整到所述目標(biāo)曲率。
6.帶有氣浮支承表面的磁頭平衡架組件的制造方法，所述氣浮支承表面相對旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)浮動，所述磁頭平衡架組件包括帶有在所述氣浮支承表面上的磁換能器的磁頭浮動塊、用于支撐所述浮動塊的平衡架、用于支撐所述平衡架的懸臂，這種制造方法包括以下步驟：
測量所述懸臂的外形數(shù)據(jù)；
利用所述外形數(shù)據(jù)來計算所述浮動塊的預(yù)測浮動高度；
根據(jù)所述預(yù)測浮動高度和所要目標(biāo)浮動高度之間的差別來計算出調(diào)整目標(biāo)曲率；和
將所述氣浮支承表面的曲率調(diào)整到所述目標(biāo)曲率。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁頭平衡架組件制造方法，其特征在于，所述懸臂外形數(shù)據(jù)涉及將所述懸臂壓在所述記錄介質(zhì)上的載荷和/或所述壓載荷的靜態(tài)姿態(tài)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁頭平衡架組件制造方法，其特征在于，所述懸臂外形數(shù)據(jù)涉及將所述懸臂壓在所述記錄介質(zhì)上的載荷和/或所述壓載荷的靜態(tài)姿態(tài)。
9.帶有氣浮支承表面的磁頭浮動塊的制造設(shè)備，所述氣浮支承表面相對旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)浮動，所述磁頭浮動塊包括在所述氣浮支承表面上的磁換能器，并由位于所述氣浮支承表面的背面與懸臂成一體的平衡架支撐，這種制造設(shè)備包括：
用于輸入所述浮動塊外形數(shù)據(jù)的裝置；
利用所述外形數(shù)據(jù)來計算所述浮動塊的預(yù)測浮動高度的裝置；
根據(jù)所述預(yù)測浮動高度和所要目標(biāo)浮動高度之間的差別來計算出調(diào)整目標(biāo)曲率的裝置；和
用于將所述氣浮支承表面的曲率調(diào)整到所述目標(biāo)曲率的裝置。
10.帶有氣浮支承表面的磁頭浮動塊的制造設(shè)備，所述氣浮支承表面相對旋轉(zhuǎn)記錄介質(zhì)浮動，所述磁頭浮動塊包括在所述氣浮支承表面上的磁換能器，并由位于所述氣浮支承表面的背面與所述懸臂成一體的平衡架支撐，這種制造設(shè)備包括：
用于測量所述浮動塊的外形數(shù)據(jù)的裝置；
利用所述外形數(shù)據(jù)來計算所述浮動塊的預(yù)測浮動高度的裝置；
根據(jù)所述預(yù)測浮動高度和所要目標(biāo)浮動高度之間的差別來計算出調(diào)整目標(biāo)曲率的裝置；和
用于將所述氣浮支承表面的曲率調(diào)整到所述目標(biāo)曲率的裝置。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的磁頭浮動塊制造設(shè)備，其特征在于，所述浮動塊外形數(shù)據(jù)涉及階式止推支承深度、負(fù)壓槽深度、磁道寬度和氣浮支承表面曲率中的至少一種。
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