[發(fā)明專利]基于二極管和陰極導(dǎo)電性以及陰極發(fā)光的數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01124741.X | 申請日: | 2001-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN1367534A | 公開(公告)日: | 2002-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | G·A·吉布森 | 申請(專利權(quán))人: | 惠普公司 |
| 主分類號: | H01L27/10 | 分類號: | H01L27/10;G11C11/34 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 陳霽,王忠忠 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 二極管 陰極 導(dǎo)電性 以及 發(fā)光 數(shù)據(jù) 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種數(shù)據(jù)存儲裝置,包括:
具有整流結(jié)區(qū)域的存儲介質(zhì)(40);
在整流結(jié)區(qū)域附近的至少一個納米級的未修改的區(qū)域(140);
在整流結(jié)區(qū)域附近的至少一個納米級的修改的區(qū)域(130);以及
位于存儲介質(zhì)(40)的表面附近的至少一個能量發(fā)射探針(105)。
2.如權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲裝置,其中所述整流結(jié)包括至少一個從由以下元件構(gòu)成的組中選擇的元件:連接有熒光層的光二極管,p-n結(jié),p+-p結(jié),n+-n結(jié),至少具有兩個電極(125,135)的陰極導(dǎo)電材料,和肖特基勢壘。
3.如權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲裝置,其中所述修改區(qū)域(130)包括和構(gòu)成未被修改的區(qū)域(140)的材料的物理狀態(tài)不同的材料。
4.如權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲裝置,其中能量發(fā)射探針(105)還包括能量溝通(channeling)元件(120)。
5.如權(quán)利要求4所述的數(shù)據(jù)存儲裝置,其中能量溝通元件(120)和存儲介質(zhì)(40)直接接觸。
6.如權(quán)利要求4所述的數(shù)據(jù)存儲裝置,其中能量溝通元件(120)包括一個芯部(220)和一個護套(230)。
7.如權(quán)利要求4所述的數(shù)據(jù)存儲裝置,其中能量發(fā)射探針(105)還包括定位元件(200),其比能量溝通元件(120)進一步向存儲介質(zhì)(40)的表面延伸。
8.一種數(shù)據(jù)存儲的方法,包括:
提供一種包括整流結(jié)區(qū)域和納米級的未修改的區(qū)域(140)的存儲介質(zhì)(40);
把能量溝通元件(120)設(shè)置在存儲介質(zhì)(40)附近;
把納米級的未修改的區(qū)域(140)轉(zhuǎn)換成納米級的修改的區(qū)域(130)。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,其中設(shè)置步驟包括使能量溝通元件(120)和存儲介質(zhì)(40)實現(xiàn)物理接觸的步驟。
10.如權(quán)利要求8所述的方法,其中轉(zhuǎn)換步驟在大于10-5乇的壓力下進行。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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