[發明專利]用于增進可刻錄光盤刻錄優良率的方法及裝置無效
| 申請號: | 01124732.0 | 申請日: | 2001-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN1400586A | 公開(公告)日: | 2003-03-05 |
| 發明(設計)人: | 蔡清雄;陳建達;簡君文 | 申請(專利權)人: | 迪維安公司 |
| 主分類號: | G11B7/00 | 分類號: | G11B7/00;G11B7/0045;G11B7/125 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 王志森 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 增進 刻錄 光盤 優良 方法 裝置 | ||
?????????????????????????技術領域
本發明關于一種用于提高可刻錄光盤(CD-Recordable)(CD-R)刻錄優良率(recordable?yield)的方法及裝置,其依據光盤片的質量來調整刻錄速度以提高刻錄質量及優良率。
?????????????????????????背景技術
在飛利普公司(Philip?Co.)于1990年制定的橙皮書定義的可刻錄光盤標準被廣泛應用于光盤(CD)技術后,不斷發展的可刻錄光盤已漸漸成為個人計算機中的標準配備。可刻錄光盤(CDRW)的工作原理是以高瓦數的激光束在空白光盤片(blank?CD)燒出可以讀取的凹凸部分(pit?and?land)。由于該凹凸部分在激光照射后會呈現出具有信號誤差的反射光,因此可以由一般的光盤機讀取。為了刻錄數據到一空白光盤片上,在該空白光盤片表面上以濺射方式涂布一層可以被激光改變材質的染料,例如,花青染料及偶氮金屬染料。
此外,在可刻錄光盤的發展中,先后以恒線速度及恒角速度兩寫入模式為發展重心。目前可刻錄盤片成功率的最大問題來自于盤片質量的差異。即使同一識別碼(同批廠商)的盤片質量,因每次染料涂布的調配及濺射的操作等因素,也會有所差異,進而影響盤片對激光的吸收及反射,尤其以染料對高能量刻錄激光吸收分解所產生的變化會使形成的射頻信號變形(transform)。例如,目前CLV可刻錄方法為變動光功率控制(running?OPC:running?optical?power?control)。此變動光功率控制利用讀寫頭(pickup)由內到外監測寫入射頻信號(WRF:Write?Radio?Frequency)的第一(此后稱為A)、第二(此后稱為B)、第三(此后稱為C)電平來調整出光的激光功率。這種方法的最大問題為:并不是所有盤片在恒速下調整光的激光功率即可得到理想的WRF的A、B、C電平。也就是,前述以濺射涂布的染料若在盤片內外具有相當大的差異時,例如,厚度及均勻度,則單是恒速是無法調整出所需的WRF的A、B、C電平。在CAV刻錄模式中,EFM的時鐘是隨盤片上搖擺信號(wobble?signal)的周期而變化。而且,讀寫頭在每一點的切線速度的差異必須適時的予以適當的刻錄延遲時間。同時,此刻錄延遲時間必須在每一不同主軸電動機的轉速上分別建立。在數據從主機下載至可刻錄光盤的編碼器中編碼成EFM信號后,通過讀寫頭的激光能量控制將EFM圖案(pattern)刻錄至盤片。在刻錄同時反射回來的RF信號稱為WRF。WRF的形狀因激光速度、刻錄延遲及盤片溫度而改變。今以盤片刻錄中的熱影響所造成的邊緣位移(Edge?Shift?by?Thermal?Interference)為例,分別示于圖1及圖2。圖1是WRF信號邊緣后移結果示意圖。圖2是WRF信號前緣后移而后緣前移結果示意圖。如圖1及2所示,當以一射頻信號作為反饋信號并經信號處理取出其邏輯變化后,與原刻入用編碼器(未顯示)的EFM信號圖案(pattern)信號比較以作為量測動態時間偏差(jitter)值Error1及Error2的參考。接著,按數據片(data?slice)取出WRF信號即按成片的(Sliced)WRF?1、2來表示刻錄在盤片的實際圖案長度。最后,將成片的WRF?1、2與編碼器的EFM?1、2經相位比較的結果利用一低通率波器取出,其為一相位誤差的參考電平。當刻錄時,不論是CD-R或CD-RW都是使用激光能量加熱于染料上,傳統方式,物理凹面(physical?pit)信號的邊緣位置依據開始刻錄的溫度決定,如果刻錄較長的凹面信號時,盤片溫度停留在高溫的時間延長,因此,激光能量關斷后溫度不會立即下降,所以成片的WRF信號1、2的邊緣相對于編碼器的輸出EFM信號1、2后移。反之,若刻錄較短則會發生圖2中WRF信號后緣前移情況。上述狀況皆會產生動態時間偏差(Jitter)值Error1及Error2。因此必須通過調整刻錄延遲及激光能量來改善。若是無法經由上述方法來改善,則必須降速。另外,圖1中,亦顯示依橙皮書(Orange?Book)標準所取得WRF的A、B、C電平值。WRF的波形(profile)與染料晶化深度相關,而染料晶化深度與時間延遲(3T-11T)射頻波形的對稱性有關。如果在高速下無法利用寫入激光功率來得到所需的A、B、C電平值,則必須降速。然而,對于降速的要求卻是目前恒速的CLV刻錄技術所無法達到的。
因此,本發明的目的是提供一種用于增進可刻錄光盤刻錄優良率的方法及裝置,其在刻錄過程中,會依盤片優劣靈活地調整刻錄速度,以此提高刻錄質量并增加優良率。
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