[發明專利]磁記錄介質用玻璃基體的制造方法

無效

• 申請號: 01124302.3
• 申請日: 2001-06-09
• 公開（公告）號: CN1336637A
• 公開（公告）日: 2002-02-20
• 發明（設計）人: 藤村明男;保坂俊雄;益永純次
• 申請（專利權）人: 三井金屬礦業株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 周慧敏

本發明涉及磁記錄介質用玻璃基體的制造方法，更具體涉及一種制造方法，其能夠制造磁記錄介質用玻璃基體，該方法在磁記錄層一側玻璃基體表面的周邊上，在相當程度上不引起邊緣凹凸(edge-sagging)，該周邊光滑均勻，甚至在磁記錄層一側上玻璃基體表面的最外周邊區域也是如此，并且其含有相當少量的表面疵點。

作為常規磁記錄介質用基體，主要使用的是經多步加工方法，以Ni-P鍍覆鋁合金板，然后拋光該板的鍍覆主表面而制備的各種基體。

但是，甚至在便攜式電腦例如筆記本個人電腦中，目前也已采用磁盤記錄裝置，而且該磁記錄介質應當以不少于10000rpm級別的高速度旋轉，以便提高磁盤記錄裝置的反應速度。為此，需要開發一種磁盤記錄介質用基體，該基體具有能耐受這類嚴酷條件的高強度。作為能滿足前述要求的這類基體，人們已采用了玻璃基體。

這類被廣泛采用的磁記錄介質用玻璃基體，包括例如，化學增強的玻璃基體，其強度靠化學增強處理得以改進；或者結晶玻璃基體，其制備經過熔化，以及為獲得玻璃基體而模制玻璃材料，并在長時間內將該玻璃基體保持在范圍600-800℃的高溫以便在該基體中或在玻璃基質中部分分離出晶體相。

化學增強玻璃基體是，例如經過熔化玻璃材料并將該熔體形成用于化學增強玻璃基體的玻璃基體，然后讓該玻璃基體經受研磨和拋光處理，并將其浸入例如硝酸鈉或硝酸鉀的熔融鹽中，以便在其表面層中形成一壓縮的受壓層，從而獲得的一種基體。結晶玻璃是這樣一種玻璃，其包含40-80％的晶體相和20-60％的無定形玻璃相，并且晶體相的作用使它的強度提高。

磁盤記錄裝置的存儲容量已被大大提高，已經觀察到一種傾向，即，甚至在該磁記錄層一側接近該基體周邊的區域內，在磁記錄介質用玻璃基體的表面上形成磁記錄層，并且將這樣形成的周邊區域用作磁記錄層，以便改進每一磁記錄介質的記錄容量。為此，要求甚至在其周邊附近的區域內確立磁記錄介質的高光滑度。另外，磁記錄介質用元件被顯著微型化，以便增加記錄密度，并因此還要求磁記錄介質用玻璃基體上的疵點應當更小，并且其數量應相當地減少。

但是，在當通過按照公知方法研磨和拋光這類玻璃材料制備磁記錄介質用玻璃基體時的拋光步驟中，很難穩定地制造邊緣凹凸(edge-sagging)程度落在要求范圍內的玻璃基體，該方法使用例如發泡聚氨酯型的硬磨耗布或例如麂皮型的軟磨耗布，并且磨耗液含約數個百分數的含鈰磨料，該磨料的平均粒度范圍是約0.5-2μm。

當拋光機生產商制造用于拋光磁記錄介質用玻璃基體的雙側拋光裝置時，生產商一般通過在整個拋光過程中經拋光而完成，將該裝置劃線臺表面的平整度調節到不多于50μm的水平。然而，在使上下劃線臺適合于實際使用的雙側拋光裝置時，不可能校正該劃線臺表面的平整度。為此，經拋光機生產商調節過平整度的劃線臺被不做任何改動或調節地使用。通常，該雙側拋光裝置中使用的磨耗布是一種彈性材料，從而某種程度上，由于磨耗布的彈性，可減輕劃線臺表面的變形。但是，在把磨耗布粘合在劃線臺表面時，如果繼續拋光步驟，由于劃線臺使用期間施加在劃線臺表面的壓力，以及拋光作業生成的熱，劃線臺表面會受到變形，并且該變形在其早期階段達到不少于100μm的水平。在這樣的條件下，劃線臺表面的變形量大于磨耗布的彈性量，因此，臺表面的變形不能因磨耗布的彈性而被減輕。結果，劃線臺表面條件(平整度)的改變或變形，以及在適配上劃線臺的磨耗布和適配下劃線臺的磨耗布之間的平行關系陷于混亂下繼續的拋光作業，都極大地影響磨耗布的表面狀況。這導致完成拋光所需的時間比要求的范圍延長(這又導致每一塊磨耗布可拋光的玻璃基體的數量減少)。這還導致在玻璃基體上產生表面疵點，并且這成為邊緣凹凸的主要成因。

如果劃線臺的表面能被拋光到以致改進該表面的平整度，同時，上下劃線臺與供拋光磁記錄介質用玻璃基體的雙側拋光裝置適配，則前述問題會容易地解決。

因此，本發明的目的是，提供磁記錄介質用玻璃基體的有效制造方法，該方法不在磁記錄層側玻璃基體表面周邊上引起任何可觀程度的邊緣凹凸，其甚至在接近磁記錄層一側表面的最外周邊也是光滑的，而且其在很大程度上沒有表面疵點。