[發明專利]負壓空氣潤滑承載浮動塊

無效

• 申請號: 01122024.4
• 申請日: 2001-06-22
• 公開（公告）號: CN1336661A
• 公開（公告）日: 2002-02-20
• 發明（設計）人: 姜泰式;樸魯烈;金宰元
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G11B19/20
• 分類號: G11B19/20;G11B5/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 王以平

1.一種負壓空氣承載浮動塊，包括：

塊體，沿記錄信息的盤的磁道在第一方向飛行，同時被抬起預定的高度；

多個軌體，提供在對應于盤的表面的塊體的底部；

進氣通道，布置在沿第一方向上塊體的底部，并且在浮動塊的前導端部分有一個進氣部，在塊體的內側有一個排氣部；以及

一對負壓凹進部分，提供在進氣通道的排氣部，相對于進氣通道被設置在沿垂直于第一方向的第二方向。

2.根據權利要求1的浮動塊，其中一個第一軌座，具有W形狀，位于沿第一方向浮動塊的前側，包圍所述一對負壓凹進部分，并且具有一個突出部分，該突出部分在浮動塊的中間沿兩個負壓凹進部分之間延伸，并且對應于每一個負壓凹進部分的第一軌體提供在第一軌座上。

3.根據權利要求2的浮動塊，其中突出部分的上表面配置為低于第一軌體，并且進氣通道提供在突出部分的上表面上。

4.根據權利要求2或3的浮動塊，其中第一軌體形成在第一軌座的上表面的一部分上，并且一個前階梯部分提供在第一軌座的上表面上第一軌體的前導端部分。

5.根據權利要求4的浮動塊，其中第一軌體形成在第一軌座的上表面的一部分上，并且一個后階梯部分提供在第一軌座的上表面上在第一軌體的后面面向負壓凹進部分。

6.根據權利要求2或3的浮動塊，其中第一軌體形成在第一軌座的上表面的一部分上，并且一個后階梯部分提供在第一軌座的上表面上在第一軌體的后面面向負壓凹進部分。

7.根據權利要求1-3和權利要求5的任一項的浮動塊，其中第二軌座以恒定的間隔提供在第一軌座的兩側的每一個的后面，并且第二軌體提供在第二軌座的每一個上。

8.根據權利要求4的浮動塊，其中第二軌座以恒定的間隔提供在第一軌座的兩側的每一個的后面，并且第二軌體提供在第二軌座的每一個上。

9.根據權利要求6的浮動塊，其中第二軌座以恒定的間隔提供在第一軌座的兩側的每一個的后面，并且第二軌體提供在第二軌座的每一個上。

10.根據權利要求7的浮動塊，其中第三軌體提供在兩個第二軌體之間。

11.根據權利要求9或10的浮動塊，其中第三軌體提供在兩個第二軌體之間。

12.根據權利要求7的浮動塊，其中第二軌體與塊體的后端隔開預定的距離。

13.根據權利要求8-10任一項的浮動塊，其中第二軌體與塊體的后端隔開預定的距離。

14.根據權利要求11的浮動塊，其中第二軌體與塊體的后端隔開預定的距離。

15.根據權利要求2的浮動塊，其中一個傾斜部分形成在第一軌座前側的兩邊的每一個角隅處。

16.一種負壓空氣承載浮動塊，包括：

一個塊體；

一個第一軌體，提供在沿第一方向塊體的前導端部分，其具有配置在沿第一方向兩側的一對第一部分，沿第二方向的一個第二部分，其兩端與第一部分的前導端部分相連接，以及提供在第二部分的中間部分的沿第一方向的一個進氣通道，其中一對負壓凹進部分在第一部分與第二部分之間的內部空間以預定的間隔相對于進氣通道提供在沿第二方向的兩側；以及

一對第二軌體，提供在沿第一方向浮動塊的塊體的后面的兩側。

17.根據權利要求16的浮動塊，其中一個第三軌體位于沿第一方向后側的中間部分，插入在兩個第二軌體之間。

18.根據權利要求16或17的浮動塊，其中第一軌體具有一個在其中間部分具有預定高度的突出部分，并且第一軌體形成在第一軌座兩側上，第一軌座具有W形狀并包圍負壓凹進部分，進氣通道提供在第一軌座的突出部分的上表面上。

19.根據權利要求18的浮動塊，其中第一軌體形成在第一軌座的上表面的一部分上，并且一個階梯部分通過第一軌座的不形成第一軌體的上表面形成在第一軌體的任何前側與后側處。

20.根據權利要求18的浮動塊，其中突出部分的長度具有不大于塊體長度的70％的值。

21.根據權利要求19的浮動塊，其中突出部分的長度具有不大于塊體長度的70％的值。