[發明專利]硅基有機微光機聲壓傳感器芯片制備方法無效
| 申請號： | 01119332.8 | 申請日： | 2001-05-29 |
| 公開（公告）號： | CN1318737A | 公開（公告）日： | 2001-10-24 |
| 發明（設計）人： | 張平;高福斌;邢汝冰 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | G01D5/36 | 分類號： | G01D5/36 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 130022 *** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 有機 微光 聲壓 傳感器 芯片 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
一種硅基有機微光機聲壓傳感器芯片制備方法步驟包括：
1)在雙面拋光的硅襯底的正反面同時熱氧化生長二氧化硅保護膜；
2)利用光刻技術，在硅襯底背面光刻出硅傳感窗口的圖形；
3)利用硅各向異性腐蝕技術，腐蝕出硅傳感窗口，使硅振動膜達到設計的厚度；
其特征在于還包括如下步驟：
4)采用浸漬或旋涂的方法，將低折射率有機溶液均勻涂附在硅襯底正面，經干燥固化使低折射率有機溶液中的溶劑充分揮發，形成折射率較低的光波導第二包覆層；
5)采用旋涂的方法，將高折射率有機溶液均勻涂附在光波導第二包覆層表面，經干燥固化使高折射率有機溶液中的溶劑充分揮發，形成折射率較高的光波導第一包覆層；
6)用浸漬或旋涂的方法，將低折射率有機溶液均勻涂附在光波導第一包覆層表面，經干燥固化使低折射率有機溶液中的溶劑充分揮發，形成折射率較低的光波導芯層；
7)利用雙面光刻對準技術，在光波導芯層表面制備出Mach-Zehnder干涉儀脊型光波導結構的掩模圖形；
8)根據所選用的低折射率有機光學材料，可分別采用反應離子刻蝕或紫外漂白技術在光波導芯層上制備出Mach-Zehnder干涉儀脊型光波導結構，從而制備出硅基有機微光機聲壓傳感器芯片。
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