[發(fā)明專利]特別用于開關(guān)或斷路器的電氣保護(hù)裝置的真空盒

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 01117032.8
• 申請日: 2001-04-19
• 公開（公告）號: CN1321994A
• 公開（公告）日: 2001-11-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 漢斯·謝爾肯斯;丹尼斯·吉?jiǎng)诘?/a>;瑟奇·奧利夫;克里斯托夫·阿諾
• 申請（專利權(quán)）人: 施耐德電器工業(yè)公司
• 主分類號: H01H9/30
• 分類號: H01H9/30;H01H9/44;H01H33/664
• 代理公司: 柳沈知識產(chǎn)權(quán)律師事務(wù)所
• 代理人: 李瑞海

1．一種真空盒，特別用于電氣保護(hù)裝置，諸如開關(guān)或斷路器，所述盒包括由兩個(gè)端板封閉的大致為圓柱形的外殼，兩個(gè)軸向延伸到外殼內(nèi)側(cè)的觸點(diǎn)，被稱為可動觸點(diǎn)至少一個(gè)觸點(diǎn)連接到一操縱機(jī)構(gòu)，并且滑動地安裝在對應(yīng)裝置休止位置的觸點(diǎn)閉合位置和觸點(diǎn)分離并在其間形成電弧的位置之間，觸點(diǎn)的分離導(dǎo)致電路斷路，且所述盒還包括用于產(chǎn)生軸向磁場的裝置，該磁場用于在電弧形成區(qū)域內(nèi)散布電弧，其特征在于，所述盒包括稱為第一裝置的裝置，以在斷路期間加速冷卻，尤其是以液體形式在所述觸點(diǎn)或各觸點(diǎn)(4、5)的接觸表面(7)上流動的接觸材料(8)的冷卻，所述液體來自于接觸材料由于在斷路期間電弧的集中效應(yīng)而產(chǎn)生的熔化。

2．如權(quán)利要求1所述的真空盒，其特征在于，這些第一裝置包括稱為第二裝置的裝置，用于增大觸點(diǎn)(各觸點(diǎn))(4、5)和上述的液體之間的接觸表面(7)，以便產(chǎn)生對電弧不可見但液體可接觸的表面(22)。

3．如權(quán)利要求2所述的真空盒，其特征在于，這些第二裝置包括至少一個(gè)狹縫(10)，其在一個(gè)或每個(gè)觸點(diǎn)(4、5)內(nèi)形成，并且被布置成接收上述液體并有助于其流動。

4．如權(quán)利要求3所述的真空盒，其特征在于，這些第二裝置包括幾個(gè)狹縫(10)，它們都圍繞觸點(diǎn)(各觸點(diǎn))(4、5)布置，所述狹縫從靠近起弧觸點(diǎn)(4、5)的中間部分(11)徑向延伸到觸點(diǎn)的周邊(12)。

5．如權(quán)利要求3或4所述的真空盒，其特征在于，每個(gè)狹縫(10)在一平面內(nèi)延伸，該平面與觸點(diǎn)(4、5)的接觸表面(7)的平面P形成10°到80°的角度β。

6．如權(quán)利要求2所述的真空盒，其特征在于，這些第二裝置包括至少一個(gè)槽(13)，該槽被設(shè)計(jì)成接收上述的液體并且徑向延伸入觸點(diǎn)(4、5)內(nèi)側(cè)，從靠近觸點(diǎn)(4、5)的中間部分(11)直到觸點(diǎn)的周邊(12)。

7．如權(quán)利要求2所述的真空盒，其特征在于，這些第二裝置包括至少一個(gè)小孔，其在一個(gè)或每個(gè)觸點(diǎn)(4、5)內(nèi)形成，所述小孔連接這個(gè)(或每個(gè))觸點(diǎn)的上表面和下表面，并且具有小于電弧直徑的直徑。

8．如權(quán)利要求2所述的真空盒，其特征在于，這些第二裝置包括至少一個(gè)第一小孔(14)，其設(shè)置在一個(gè)或每個(gè)觸點(diǎn)(4、5)的中間，并且提供了到設(shè)置在所述(或每個(gè))觸點(diǎn)(4、5)的桿部(16)內(nèi)的圓柱形第二小孔(15)的通道，小孔的直徑小于電弧的直徑。

9．如權(quán)利要求1到8中任一項(xiàng)所述的真空盒，其特征在于，這些第一裝置包括稱為第三裝置的裝置，用于增加液體的流動速度。

10．如權(quán)利要求2和9所述的真空盒，其特征在于，第二裝置包括如權(quán)利要求3或4所述的狹縫(10)，根據(jù)這些第三裝置，液體初始流動方向和液體進(jìn)入狹縫的方向之間形成的角度α小于或等于90°。

11．如權(quán)利要求9或10所述的真空盒，其特征在于，這些第三裝置包括用于產(chǎn)生軸向磁場的裝置，該磁場的方向?yàn)檠鬲M槽(10)的入口方向推動液體。

12．如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的真空盒，其特征在于，起弧觸點(diǎn)(4、5)的接觸表面(7)被拋光，以便利于液體的流動。

13．如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的真空盒，其特征在于，它另外包括用于細(xì)分電弧的裝置(19)，以便產(chǎn)生多個(gè)熱源。

14．如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的真空盒，其特征在于，用于產(chǎn)生軸向磁場的裝置為用于在局限于電弧所處位置的地方產(chǎn)生磁場的裝置(20)，該磁場用于散布電弧。

15．如權(quán)利要求2所述的真空盒，其特征在于，根據(jù)這些第二裝置，一個(gè)或每個(gè)起弧觸點(diǎn)(4、5)為中空的，并且包括在其接觸表面(7)內(nèi)的小孔(17)，提供了到觸點(diǎn)相反表面(18)的通道，該相反的表面(18)從而參與冷卻，觸點(diǎn)(4、5)的供電通過觸點(diǎn)的周邊(12)進(jìn)行。

16．如權(quán)利要求15所述的真空盒，其特征在于，觸點(diǎn)的邊緣被切割，形成線圈，該線圈被設(shè)計(jì)成產(chǎn)生上述的用于散布電弧的軸向磁場。

17．如權(quán)利要求7、8或15所述的真空盒，其特征在于，小孔(14、17)的直徑在觸點(diǎn)(4、5)的外徑的0.1到0.3倍之間。

18.如權(quán)利要求7和13所述的真空盒，其特征在于，產(chǎn)生的軸向散布磁場為多極磁場，并且一個(gè)或每個(gè)觸點(diǎn)(4、5)包括同極性一樣多的小孔(19)。