[發明專利]易聚合物質的生產方法和精制設備有效
| 申請號: | 01116593.6 | 申請日: | 2001-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN1318533A | 公開(公告)日: | 2001-10-24 |
| 發明(設計)人: | 光元哲治;西村武;中原整;原槙英文 | 申請(專利權)人: | 株式會社日本觸媒 |
| 主分類號: | C07B63/00 | 分類號: | C07B63/00;C07C51/44;C07C57/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,譚明勝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚合 物質 生產 方法 精制 設備 | ||
本發明是關于一種易聚合物質的生產方法和所用的精制設備。更具體地,本發明是關于一種易聚合物質的精制方法和所用的精制設備,以及一種防止易聚合物質在蒸餾塔中發生聚合的方法和所用設備。
由于易聚合物質如丙烯酸和甲基丙烯酸易于聚合,因此在精制時要有阻聚劑存在。
例如,當這種易聚合物質被蒸餾時,它會以液態形式滯留在蒸餾裝置結構組件的內表面,因此不可避免地導致聚合。為防止這一現象出現,必須使從蒸餾裝置流出的液體通過一個過濾器將聚合物分離出來。否則,就須停止蒸餾裝置的運行,然后對裝置內部積累的聚合物進行人工清除。
作為消除上述問題的一種措施,JP-A-10-212,249描述了防止易聚合有機化合物在精制裝置中形成滯留的構思。這一構思是為精餾裝置的塔盤支持件或填料支持件提供液流通孔。
圖1為傳統的用水平卡板將塔盤固定到支持圈的方法。在圖1中,塔盤1用水平卡板7、墊片5、螺帽4和螺栓6固定在支持圈2上。有時支持圈2被固定在蒸餾塔的內壁3上。圖2是圖1中用到的水平卡板7的示意圖。圖2A是水平卡板27的平面圖,圖2B是其正視圖,圖2C是其側視圖。本文所用的術語“水平卡板”,正如從圖2A中可以清楚看到的,是指卡板的水平部分寬度超出螺栓直徑1.5倍。
圖3描述了支持圈上形成的傳統的液流孔,支持圈固定于蒸餾塔的內壁。參照俯視圖圖3,滯留在固定于蒸餾塔的內壁33的支持圈32上的液體物質通過液流孔38流下。
借助這一措施,易聚有機化合物可以通過液流孔流出,因此滯留減少,聚合在一定程度上得以減少。然而其效果并不能完全令人滿意。
本發明的目的在于使用一種蒸餾設備對易聚物質進行有效的精制,以解決上述問題;在于提供一種能夠減少聚合的生產易聚合物質的方法和精制設備。
本發明的目的之一是提供一種生產易聚合物質的方法,其特征在于借助一種至少其部份裝有部件的塔以實現必要的精制過程。該部件為(a)直接用螺帽和螺栓固定在支持圈上的塔盤和/或(b)用垂直卡板固定在支持圈上的塔盤。
本發明的另一目的是提供一種生產易聚合物質的方法,其特征在于借助一種蒸餾塔以實現必要的精制過程,這種蒸餾塔在其較低的部位安裝有濺液擋板。
本發明的另一目的是提供一種精制設備,其特征在于至少具有以下(ⅱ)-(ⅲ)幾種特征之一:(ⅰ)用垂直卡板固定在支持圈上的塔盤,(ⅱ)在支持圈和塔壁的連接部位形成的至少一個液流孔,(ⅲ)在塔盤和支持圈之間的固定部位形成的液流孔。
根據本發明,液體物質的停留時間可以縮短,因此易聚合物質在蒸餾塔中的聚合得以抑制。
根據本發明,在蒸餾塔中加裝濺液擋板,阻止塔內液體從液面飛濺和進一步上升,可使易聚合物質在蒸餾塔內部的聚合得到抑制。
本發明的以上和其他目的、特點和優點通過以下優選實施方案的描述可以更加清楚。
并入本文并構成說明書一部分的附圖,對本發明的幾個方面進行了例示說明,并與文字描述一起解釋了本發明的原理。在附圖中:
圖1為用水平卡板將塔盤固定在支持圈上的傳統方法的局部剖面圖。
圖2為圖1中所用水平卡板的示意圖,A為平面圖,B為正視圖,C為側視圖。
圖3為描述傳統的、在固定在蒸餾塔內壁的支持圈上形成的液流孔的圖示。
圖4為描繪安裝在蒸餾塔內部用于支撐塔盤的支持圈的一個實例的局部剖面圖。
圖5為說明用螺栓和螺帽將塔盤固定在支持圈上的一個實例的局部剖面圖,A為正視圖、B為俯視圖、C為仰視圖。
圖6為描述用垂直卡板將塔盤固定在支持圈上的一種方法的圖示。
圖7為描繪圖6中所述的垂直卡板的局部剖面圖,A為平面圖、B為正視圖、C為側視圖。
圖8為描述在蒸餾塔內壁和固定于其上的支持圈之間形成的液流孔的圖示。
圖9為描述另一種在蒸餾塔內壁和固定于其上的支持圈之間形成的液流孔的圖示。
圖10A-10C為描述幾個安裝于蒸餾塔最低部位的濺液擋板的實例的局部剖面圖。
圖11為描述固定塔盤的常規方法的局部剖面圖,A為正視圖、B為俯視圖、C為仰視圖。
下文,將對本發明進行詳細描述。
本發明所精制的易聚合物質通常含有雜質。所進行的去除雜質的精制過程,除要求該物質為易聚合液體外,并無其他特別要求。易聚合物質的實例可以包括不飽和羧酸和/或其酯、含乙烯基的化合物和二烯類化合物。
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