[發明專利]具有平面性調整機構的探針接觸系統

無效

• 申請號: 01115732.1
• 申請日: 2001-05-31
• 公開（公告）號: CN1336549A
• 公開（公告）日: 2002-02-20
• 發明（設計）人: 西奧多·A·庫利;羅伯特·愛德華·阿爾達斯
• 申請（專利權）人: 株式會社鼎新
• 主分類號: G01R1/073
• 分類號: G01R1/073;G01R31/26
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 蹇煒

1.一種探針接觸系統的平面性調整機構，用于與接觸目標建立電連接，包括：

接觸基片，其表面上裝有大量的接觸器；

探針板，用于在接觸器和半導體測試系統的測試頭之間建立電連接；

裝在接觸基片和探針板之間的導電彈性體；

連接件，用于在三個位置上連接接觸基片和接觸基片上的探針板，連接件是可調的，以便調節接觸基片和探針板之間的間隙；

間隙傳感器，用于測量接觸基片和半導體晶片或參考板(目標基片)之間的間隙，半導體晶片或參考板(目標基片)位于接觸基片的三個位置的每一個位置附近；以及

旋轉調整機構，用來調整連接件，以致于接觸基片和三個位置中每一個位置的接觸目標之間的間隙相等。

2.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，連接接觸基片和探針板的連接件是由螺栓和螺母組成的。

3.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，連接接觸基片和探針板的連接件是由差動螺釘組成的。

4.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，間隙傳感器通過測量間隙傳感器和相對的電極之間的電容來確定接觸基片和目標基片之間的間隙。

5.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，間隙傳感器位于接觸基片的上表面，或者位于接觸基片的下表面。

6.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，參考板由陶瓷或鋁的基片制成，在其與間隙傳感器相對的位置上具有電極。

7.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，接觸基片上的三個位置中的每一個位置分別對應于正三角形的一個頂點。

8.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，連接接觸基片和探針板的連接件是由螺栓和螺母組成的，螺母裝在探針板的表面上并可以旋轉，并且，其中旋轉調整機構位于探針板的表面上，用來旋轉螺母，以便使接觸基片與三個位置上的每一個位置的目標基片之間的間隙相等，旋轉調整機構有一個底孔與螺母接合。

9.按照權利要求8所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，旋轉調節裝置由上旋鈕、下旋鈕和旋鈕基座組成，上旋鈕和下旋鈕互相機械地連接，而下旋鈕和旋鈕基座是互相可旋轉地連接，旋鈕基座固定在探針板上，同時，上旋鈕有一較低的伸出部分，該部分有一個底孔，上旋鈕可以使螺母轉動，以調整三個位置的間隙。

10.按照權利要求9所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，旋轉調整裝置的下旋鈕有大量的固定孔，用于在其中安裝柱塞和彈簧，利用彈簧的彈性，使柱塞較低的觸點從下旋鈕的下表面伸出；旋轉調整裝置的旋鈕基座有大量的輻射狀槽，以致于當上、下旋鈕旋轉時，柱塞的較低的觸點與凹槽嚙合；固定孔的間距和輻射狀槽的間距不相等。

11.按照權利要求10所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，柱塞由低摩擦塑料或自潤滑塑料制成。

12.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，還包括一個支撐架，該支撐架裝在接觸基片和導電彈性體之間，用于支撐接觸基片，其中，連接件伸到探針板和支撐架之間。

13.按照權利要求1所述的探針接觸系統的平面性調整機構，其中，導電彈性體由硅橡膠片和垂直走向的金屬絲組成，后者使得只在垂直方向上建立通信連接。

14.一種探針接觸系統的平面性調整機構，用于與接觸目標建立電連接，包括：

接觸基片，它有大量的安裝在其表面上的接觸器；

探針板，用于在接觸器和半導體測試系統的測試頭之間建立電通信連接；

導電彈性體，裝在接觸基片和探針板之間；

連接構件，用于在三個位置上連接接觸基體和接觸基體上的探針板，并且連接件可以被調節，以改變接觸基片和探針板之間的間隙；

間隙傳感器，用于測量接觸基片和半導體晶片或參考板(目標基片)之間的間隙，半導體晶片或參考板(目標基片)位于接觸基片三個位置的附近；

控制器，它基于間隙傳感器測量的間隙而產生控制信號；以及

馬達，它響應來自控制器的控制信號而驅動連接件旋轉，以致于使接觸基片和三個位置的目標基片之間的間隙相等。