[發明專利]可記錄光盤和在該光盤上記錄數據的方法無效
| 申請號: | 01111380.4 | 申請日: | 2001-01-13 |
| 公開(公告)號: | CN1313589A | 公開(公告)日: | 2001-09-19 |
| 發明(設計)人: | 黑田和男 | 申請(專利權)人: | 日本先鋒公司 |
| 主分類號: | G11B7/007 | 分類號: | G11B7/007;G11B7/24;G11B19/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 梁永 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 記錄 光盤 數據 方法 | ||
1.一種可記錄光盤(100)包括:光盤基底(110);和在所述盤基底上圍繞所述盤基底的中心螺旋或同軸地形成的記錄跡道(102),特征在于:
所述可記錄光盤還包括在所述盤基底的預定區形成的與預定數據相應的浮凸坑,該浮凸坑記錄在預定區中的所述記錄跡道上。
2.根據權利要求1的可記錄光盤(100),特征在于所述浮凸坑是這樣形成的,在預定數據的記錄標記和記錄間隔之間的邊界上不存在所述浮凸坑。
3.根據權利要求1或2的可記錄光盤(100),特征在于在預定數據的記錄標記沿記錄跡道(102)的長度等于或長于預定長度的位置,形成所述浮凸坑。
4.根據權利要求3的可記錄光盤(100),特征在于不考慮記錄標記的長度,所述浮凸坑的長度是不變的。
5.根據權利要求3的可記錄光盤(100),特征在于所述浮凸坑的長度依據記錄標記的長度是可變的。
6.根據權利要求1到5中任一個的可記錄光盤(100),特征在于在預定數據的記錄間隔沿記錄跡道(102)的長度等于或長于預定長度的位置形成所述浮凸坑。
7.根據權利要求6的可記錄光盤(100),特征在于不考慮記錄間隔的長度,所述浮凸坑的長度是不變的。
8.根據權利要求6的可記錄光盤(100),特征在于所述浮凸坑的長度依據記錄間隔的長度是可變的。
9.根據權利要求1到8中任一個的可記錄光盤(100),特征在于在預定數據區中形成多個浮凸坑,每個浮凸坑具有與該浮凸坑相同的結構。
10.根據權利要求9的可記錄光盤(100),特征在于在預定數據的記錄標記沿記錄跡道(102)的長度等于或長于預定長度的位置,形成浮凸坑中的第一浮凸坑,并在預定數據的記錄間隔沿記錄跡道的長度等于或長于預定長度的位置,形成浮凸坑中的第二浮凸坑。
11.根據權利要求10的可記錄光盤(100),特征在于所述第一浮凸坑沿記錄跡道(102)的長度依據記錄標記的長度變化,所述第二浮凸坑沿記錄跡道的長度依據記錄間隔的長度變化。
12.根據權利要求9的可記錄光盤(100),特征在于每個浮凸坑沿記錄跡道(102)的長度是不變的。
13.根據權利要求1到12中任一個的可記錄光盤(100),特征在于預定區位于控制數據區中,所述預定數據是控制數據,用以控制數據記錄區的所述記錄跡道(102)上所記錄數據的記錄和/或復制操作,該數據記錄區不同于預定區,在此不形成浮凸坑。
14.根據權利要求13的可記錄光盤(100),特征在于所述控制數據區位于引導區內。
15.根據權利要求1到14中任一個的可記錄光盤(100),特征在于在數據記錄區中的記錄跡道(102)上記錄除預定數據以外的其它數據,該數據記錄區不同于預定區,在此不形成浮凸坑。
16.根據權利要求1到15中任一個的可記錄光盤(100),特征在于所述可記錄光盤還包括記錄層(111),該層在所述光盤基底(110)上形成,并通過該層,在所述記錄跡道(102)上記錄包括預定數據的數據。
17.根據權利要求16的可記錄光盤(100),特征在于所述記錄層(111)包括能進行多次寫入型記錄操作的材料。
18.根據權利要求16的可記錄光盤(100),特征在于所述記錄層(111)包括能進行一次寫入型記錄操作的材料。
19.根據權利要求16的的可記錄光盤(100),特征在于所述記錄層(111)包括能進行有限次寫入型記錄操作的材料。
20.根據權利要求1到19中任一個的可記錄光盤(100),特征在于所述可記錄光盤還包括在所述盤基底(110)上形成的反射層(112),該反射層用于反射光束,以便進行在記錄跡道(102)上記錄數據的記錄和/或復制操作。
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