[發(fā)明專利]直接熔煉設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 01111247.6
• 申請(qǐng)日: 2001-03-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN1320707A
• 公開(kāi)（公告）日: 2001-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安德魯·C·伯羅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 技術(shù)資源有限公司
• 主分類號(hào): C21B13/00
• 分類號(hào): C21B13/00
• 代理公司: 柳沈知識(shí)產(chǎn)權(quán)律師事務(wù)所
• 代理人: 馬高平

1．一種直接熔煉設(shè)備，用于由含金屬供給材料生產(chǎn)熔融金屬，其包括：

固定的熔煉容器(11)，用于容納具有金屬層(22)和在金屬層上的熔渣層(23)的熔融金屬熔池以及位于熔渣之上的氣體空間；

固體供給裝置(27)，用于向容器(11)供給含金屬供給材料和含碳材料；

氣體噴射裝置(26)，向下延伸進(jìn)入容器(26)中，將氧化氣體噴射到氣體空間和/或容器的渣層(23)中；

氣體輸送管道(31)，從不在容器(11)處的氣體供給區(qū)延伸到容器(11)之上的輸送區(qū)，以向氣體噴射裝置(26)輸送氧化氣體；

廢氣管道裝置(32)，使得廢氣從容器的上部離開(kāi)容器；

排出金屬裝置(19)，用于在熔煉階段使得熔池中熔融金屬流從容器下部排出；

排出金屬液流槽(34)，用于接收排出金屬裝置(19)來(lái)的熔融金屬，使得熔融金屬被輸送離開(kāi)容器(11)；

排渣裝置(45)，在容器的一側(cè)壁上，在熔煉階段從熔池中排出熔渣；

排渣液流槽(46)，用于接收來(lái)自排渣裝置(45)的熔渣，使得熔渣被輸送離開(kāi)容器(11)；

其特征在于，氧化氣體輸送管道裝置(31)和廢氣管道裝置(32)在三個(gè)分離的區(qū)域(1,2,3)中的第一區(qū)(1)內(nèi)延伸，這三個(gè)區(qū)域繞容器周向間隔分布，從容器向外延伸；

排出金屬裝置(19)和排出金屬液流槽(34)設(shè)置在該三個(gè)區(qū)域中的第二區(qū)(2)；

排渣裝置(45)和排渣液流槽(46)位于該三個(gè)區(qū)域中的第三區(qū)(3)。

2．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，第二和第三區(qū)(2,3)位于熔煉容器(11)相對(duì)的側(cè)壁，第一區(qū)(1)沿容器周邊位于第二和第三區(qū)(2,3)之間。

3．如權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備還包括卸渣裝置(47)，用于在熔煉結(jié)束時(shí)從容器的下部排干熔渣；該裝置(47)比排渣裝置(45)低，還包括卸渣液流槽(48)，用于接收卸渣裝置(47)來(lái)的熔渣，并將其輸送離開(kāi)容器。

4．如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，卸渣裝置(47)和卸渣液流槽(48)位于第二和第三區(qū)(2,3)之間從容器(11)向外延伸的第四分離區(qū)域(4)。

5．如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，第四區(qū)(4)相對(duì)于容器(11)大致與第一區(qū)(1)相對(duì)。

6．如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，排出金屬裝置(19)包括金屬流前爐，其從容器(11)的下部向外伸出。

7．如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，還包括金屬盛放裝置(35)，設(shè)置在離開(kāi)容器(11)的位置，排出金屬液流槽(34)延伸到該盛放裝置(35)，以將熔融金屬輸送到盛放裝置。

8．如權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，該金屬盛放裝置(35)是靜置爐。

9．如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，還包括氣體加熱裝置，位于氣體供給區(qū)，以便向氣體輸送管道裝置(31)提供熱氣體以向容器(11)噴射。

10．如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，氣體輸送管道裝置(31)包括一單獨(dú)的氣體管道，其從氣體供給區(qū)向輸送區(qū)延伸。

11．如權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，固體供給裝置(27)包括一個(gè)或多個(gè)固體噴槍。

12．如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，有多個(gè)固體噴槍(27)，它們繞容器(11)周向間隔布置。

13．如權(quán)利要求11或12所述的設(shè)備，其特征在于，每個(gè)噴槍(27)向下、向內(nèi)延伸通過(guò)容器側(cè)壁(14)進(jìn)入容器。

14．如權(quán)利要求1-13中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，排渣裝置(45)包括一對(duì)位于容器側(cè)壁(14)的排渣槽口。

15．如權(quán)利要求1-14中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，容器(11)繞一中心垂直軸設(shè)置，所述區(qū)域(1,2,3,4)從該中心軸徑向向外位于容器外側(cè)。

16．如權(quán)利要求1-15中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，該還原容器(11)位于傾斜排卸面(51)上方，該傾斜排卸面引向噴爐容納坑(52)。

17．如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，有卸渣坑(53)，用于接收來(lái)自卸渣液流槽裝置(48)的熔渣。