[發(fā)明專利]光盤頭、激光二極管模塊和光學(xué)錄/放裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01111204.2 | 申請(qǐng)日: | 2001-03-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1317786A | 公開(公告)日: | 2001-10-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 澀谷義一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | TDK株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G11B7/09 | 分類號(hào): | G11B7/09;G11B7/12;G11B7/135 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吳增勇,傅康 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 盤頭 激光二極管 模塊 光學(xué) 裝置 | ||
本發(fā)明涉及光學(xué)錄/放裝置以及用于光學(xué)錄/放裝置的光盤頭和激光二極管(LD)模塊。
在目前市場(chǎng)上可以買到各種光盤的情況下,光學(xué)錄/放裝置和光盤頭實(shí)現(xiàn)對(duì)符合多種規(guī)范的光盤的穩(wěn)定的跟蹤。用于這情況的方法大概分為:方法(1),使用RF信號(hào)產(chǎn)生跟蹤信號(hào)(下文稱為TE信號(hào)),如相位差檢測(cè)法和外差法;方法(2),將主光束分裂成用于光盤上TE信號(hào)的旁束,如3光束法和差動(dòng)推挽法;方法(3),只使用主光束而不使用RF信號(hào),如推挽法。如圖4C所示,推挽法按紋跡方向51的分割線和徑向的分割線將接收主光束光點(diǎn)反射光的光檢測(cè)元件構(gòu)成的檢測(cè)器51分割成四個(gè)元件。推挽法借助圖4D所示的運(yùn)算電路42從每個(gè)光檢測(cè)裝置的輸出中獲得跟蹤信號(hào)TE=(A+D)-(B+C),并使用該TE來進(jìn)行跟蹤控制,因?yàn)楫?dāng)光點(diǎn)位于紋跡(凹坑)的中央時(shí),TE=0,而當(dāng)光點(diǎn)向右或向左偏時(shí),TE>0或TE<0。
在這些方法中,方法(1)不能用于需要對(duì)未記錄區(qū)域進(jìn)行跟蹤伺服的媒體,如CD-R和DVD-R。方法(2)有一個(gè)缺點(diǎn),紋跡間距不能同時(shí)支持多個(gè)光盤,因?yàn)樾枰獙闹鞴馐至训淖庸馐磶孜⒚椎木认蚋櫡较驅(qū)?zhǔn),且該間隔的優(yōu)化值取決于光盤的紋跡間距。另一方面,方法(3)推挽法具有如下優(yōu)點(diǎn):第一,該方法不受是否存在RF信號(hào)的影響;第二,它不需要精確的角度調(diào)整和對(duì)光盤中央位置的高精確度的定位;第三,不存在對(duì)不同光盤紋跡間距的限制。因此,自從光盤進(jìn)入商業(yè)應(yīng)用后,推挽法就得以廣泛運(yùn)用。
用于獲得根據(jù)相關(guān)技術(shù)的光盤頭的聚焦誤差信號(hào)的系統(tǒng)包括刃形系統(tǒng)、傅科系統(tǒng)、光束尺寸系統(tǒng)和像散系統(tǒng)。對(duì)于獨(dú)立安裝光源和光檢測(cè)元件的光盤頭,通常使用所述刃形系統(tǒng)和像散系統(tǒng)。另一方面,把光源和光檢測(cè)元件安裝在同一封裝中的LD模塊,通常使用全息傅科系統(tǒng)和光束尺寸系統(tǒng)。
在推挽法中,由光檢測(cè)元件構(gòu)成的檢測(cè)器51中的光點(diǎn)50的位置和強(qiáng)度可以根據(jù)如下情況而有所不同:物鏡由跟蹤線圈來驅(qū)動(dòng)并相對(duì)于另一種光學(xué)系統(tǒng)在光盤的徑向移動(dòng);或者,光盤離開光軸而傾斜。這在所產(chǎn)生TE信號(hào)中產(chǎn)生直流偏移信號(hào)(跟蹤錯(cuò)誤)。這種信號(hào)變化稱為直流偏移。
當(dāng)所包含的直流偏移分量作用于跟蹤伺服時(shí),跟蹤性能就會(huì)顯著下降,產(chǎn)生可能的跟蹤中止錯(cuò)誤。因此,一般使用推挽法時(shí),會(huì)附加消除直流偏移的方法。
作為根據(jù)相關(guān)技術(shù)的消除直流偏移的方法,一種已知的方法是,預(yù)先估算伴隨光盤離心率的直流偏移,然后進(jìn)行適當(dāng)傾斜操作后,在執(zhí)行跟蹤伺服中校正偏移量。已知根據(jù)相關(guān)技術(shù)的另一種方法,其中提高光盤頭在螺線方向上跟蹤性能以將鏡頭位移最小化。已知根據(jù)相關(guān)技術(shù)的再一種方法,其中在光盤中設(shè)置反射鏡區(qū),并且在應(yīng)用跟蹤伺服的同時(shí)校正反射鏡區(qū)的所述偏移。
這些方法都需要復(fù)雜的信號(hào)處理、具有良好響應(yīng)特性的機(jī)構(gòu)部分、或者具有特別格式的光盤。配置較為簡(jiǎn)單且基本不受偏移影響的方法(1)和(2)在實(shí)際應(yīng)用中更為常見。
另一方面,在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的聚焦誤差信號(hào)中,重疊信號(hào)(當(dāng)在光盤偏心的情況下光束光點(diǎn)橫跨紋跡時(shí)產(chǎn)生)(所謂紋跡側(cè)向信號(hào))以干擾聚焦伺服的干擾信號(hào)的形式出現(xiàn)。雖然紋跡側(cè)向信號(hào)的重疊在像散系統(tǒng)中是主要問題,但是在其它系統(tǒng)中也不能夠完全避免。傳統(tǒng)上,為了減小紋跡側(cè)向信號(hào)的重疊,使用用于將子光束的相位作某些移動(dòng)的特殊的衍射光柵,如日本專利公開No.11-296875/(1999)中那樣,或者,將檢測(cè)器分裂成更多的元件并且使用特殊的算術(shù)運(yùn)算處理來消除聚焦誤差信號(hào)中的干擾,如日本專利公開No.2000-82262中那樣。
鑒于相關(guān)技術(shù)中的問題,本發(fā)明目的在于提供配備跟蹤控制裝置的光盤頭,激光二極管模塊及光學(xué)錄/放裝置,這種跟蹤控制裝置不需要復(fù)雜的信號(hào)處理或位置調(diào)整,而且可以通過簡(jiǎn)單的配置很容易地消除偏移。
根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)方面是配備在光學(xué)錄/放裝置中的光盤頭,所述光盤頭通過衍射元件把從光源射出的單一激光束分裂成多個(gè)子光束,并把這些子光束發(fā)射到光盤上,從而,使用子光束進(jìn)行跟蹤控制,其特征在于磁盤上成像的子光束的光點(diǎn)直徑被設(shè)定為主光束的直徑的至少2.5倍。
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