[發(fā)明專利]光盤、光盤條形碼形成方法、光盤重放裝置、標(biāo)志形成裝置、在光盤上形成激光標(biāo)志的方法以及制作光盤的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01110891.6 | 申請(qǐng)日: | 1996-05-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1379394A | 公開(公告)日: | 2002-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 后藤芳稔;大島光昭;田中伸一;小石健二;守屋充郎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G11B7/00 | 分類號(hào): | G11B7/00;G11B7/007;G11B7/24;G11B23/38 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光盤 條形碼 形成 方法 重放 裝置 標(biāo)志 激光 以及 制作 | ||
1.一種其上記錄數(shù)據(jù)的光盤,其特征在于,在所述光盤的規(guī)定區(qū)域內(nèi)提供一種標(biāo)識(shí)符以表示所述光盤上是否存在條形碼標(biāo)記,所述標(biāo)識(shí)符和所述條形碼標(biāo)記分別位于所述光盤上的不同位置,所述條形碼標(biāo)記沿圓周方向設(shè)置,且所述條形碼標(biāo)記具有多個(gè)條,每個(gè)所述的條沿徑向延伸,以及
所述條形碼標(biāo)記包括含有對(duì)所述光盤所獨(dú)特的至少識(shí)別信息值的數(shù)據(jù)。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,所述識(shí)別信息用于對(duì)所述光盤的主信息記錄區(qū)內(nèi)的信息加密和解密。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,提供控制數(shù)據(jù)以保持與所述光盤有關(guān)的物理特征信息,所述規(guī)定區(qū)域包括所述控制數(shù)據(jù)。
4.如權(quán)利要求3所述的光盤,其特征在于,在所述條形碼標(biāo)記與所述控制數(shù)據(jù)之間提供其中記錄至少地址的保護(hù)帶區(qū)域。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,所述條的一個(gè)條的反射率比所述條的一個(gè)條與所述條的另一個(gè)條之間的區(qū)域的平均反射率低。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,所述識(shí)別信息被加密或施加數(shù)字特征。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,所述光盤由兩個(gè)基片構(gòu)成。
8.一種光盤再現(xiàn)設(shè)備,所述光盤其上記錄數(shù)據(jù),在所述光盤的規(guī)定區(qū)域內(nèi)提供一種標(biāo)識(shí)符以表示所述光盤上是否存在條形碼標(biāo)記,所述標(biāo)識(shí)符和所述條形碼標(biāo)記分別位于所述光盤上的不同位置,所述條形碼標(biāo)記沿圓周方向設(shè)置,且所述條形碼標(biāo)記具有多個(gè)條,每個(gè)所述的條沿徑向延伸,其中,從包含在所述條形碼標(biāo)記內(nèi)的識(shí)別信息中獲得解密鑰,其特征在于,所述設(shè)備包括:
再現(xiàn)所述光盤上的所述條形碼標(biāo)記的再現(xiàn)裝置;以及
檢測(cè)所述光盤上所述標(biāo)識(shí)符的標(biāo)識(shí)符檢測(cè)裝置,
其中,從所述識(shí)別信息獲得解密鑰,以及
當(dāng)所述標(biāo)識(shí)符表示所述條形碼標(biāo)記不存在時(shí),通知所述控制裝置不再現(xiàn)所述條形碼標(biāo)記。
9.如權(quán)利要求8所述的光盤再現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述再現(xiàn)裝置包括執(zhí)行再現(xiàn)的光頭。
10.如權(quán)利要求8所述的光盤再現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,當(dāng)所述標(biāo)識(shí)符表示所述條形碼標(biāo)記不存在時(shí),通知所述控制裝置不再現(xiàn)所述條形碼標(biāo)記。
11.如權(quán)利要求9所述的光盤再現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,輸出所述標(biāo)記不存在的表示。
12.如權(quán)利要求2所述的光盤,其特征在于,提供控制數(shù)據(jù)以保持與所述光盤有關(guān)的物理特征信息,所述規(guī)定區(qū)域包含所述控制數(shù)據(jù)。
13.如權(quán)利要求2所述的光盤,其特征在于,所述條的一個(gè)條的反射率比所述條的一個(gè)條與所述條的另一個(gè)條之間的區(qū)域的平均反射率低。
14.如權(quán)利要求3所述的光盤,其特征在于,所述條的一個(gè)條的反射率比所述條的一個(gè)條與所述條的另一個(gè)條之間的區(qū)域的平均反射率低。
15.如權(quán)利要求4所述的光盤,其特征在于,所述條的一個(gè)條的反射率比所述條的一個(gè)條與所述條的另一個(gè)條之間的區(qū)域的平均反射率低。
16.如權(quán)利要求2所述的光盤,其特征在于,所述識(shí)別信息被加密或施加數(shù)字特征。
17.如權(quán)利要求3所述的光盤,其特征在于,所述識(shí)別信息被加密或施加數(shù)字特征。
18.如權(quán)利要求4所述的光盤,其特征在于,所述識(shí)別信息被加密或施加數(shù)字特征。
19.如權(quán)利要求5所述的光盤,其特征在于,所述識(shí)別信息被加密或施加數(shù)字特征。
20.如權(quán)利要求2所述的光盤,其特征在于,所述光盤由兩個(gè)光盤基片構(gòu)成。
21.如權(quán)利要求3所述的光盤,其特征在于,所述光盤由兩個(gè)光盤基片構(gòu)成。
22.如權(quán)利要求4所述的光盤,其特征在于,所述光盤由兩個(gè)光盤基片構(gòu)成。
23.如權(quán)利要求5所述的光盤,其特征在于,所述光盤由兩個(gè)光盤基片構(gòu)成。
24.如權(quán)利要求6所述的光盤,其特征在于,所述光盤由兩個(gè)光盤基片構(gòu)成。
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G11B7-00 用光學(xué)方法,例如,用光輻射的熱射束記錄用低功率光束重現(xiàn)的;為此所用的記錄載體
G11B7-002 .按載體形狀區(qū)分的記錄、重現(xiàn)或抹除系統(tǒng)
G11B7-004 .記錄、重現(xiàn)或抹除方法;為此所用的讀、寫或抹除電路
G11B7-007 .記錄載體上信息的排列,例如,軌跡的形式
G11B7-08 .傳感頭或光源相對(duì)于記錄載體的配置或安裝
G11B7-12 .換能頭,例如光束點(diǎn)的形成或光束的調(diào)制
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