[發(fā)明專利]化學(xué)機械研磨組合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 01104727.5
• 申請日: 2001-02-21
• 公開（公告）號: CN1370811A
• 公開（公告）日: 2002-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳書政;李宗和
• 申請（專利權(quán)）人: 長興化學(xué)工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C09K3/14
• 分類號: C09K3/14
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 林曉紅

1.一種化學(xué)機械研磨組合物，其pH值小于等于7，含有：

水性介質(zhì)；

研磨粒；

及陰離子型表面活性劑。

2.如權(quán)利要求1所述的組合物，其中研磨粒選自SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、CeO₂、SiC、Fe₂O₃、TiO₂、Si₃N₄或其混合物。

3.如權(quán)利要求1所述的組合物，其中研磨粒的含量為0.5-25重量％。

4.如權(quán)利要求3所述的組合物，其中研磨粒的含量為1-10％重量％。

5.如權(quán)利要求1所述的組合物，其中陰離子型表面活性劑是含硫酸根和/或磺酸根的表面活性劑。

6.如權(quán)利要求1所述的組合物，其中該陰離子型表面活性劑的含量為0.01-2.0重量％。

7.如權(quán)利要求6所述的組合物，其中該陰離子型表面活性劑的含量為0.03-1.0重量％。

8.如權(quán)利要求1所述的組合物，其尚可含有pH緩沖劑。

9.如權(quán)利要求8所述的組合物，其中該pH緩沖劑為無機鹽類。

10.如權(quán)利要求9所述的組合物，其中該無機鹽類為硝酸鹽類。

11.如權(quán)利要求10所述的組合物，其中該硝酸鹽類為硝酸銨。

12.如權(quán)利要求10所述的組合物，其中該硝酸鹽類的含量為0.0-5.0重量％。

13.如權(quán)利要求12所述的組合物，其中該硝酸鹽類的含量為0.03-0.5重量％。

14.如權(quán)利要求5所述的組合物，其中該含硫酸根和/或磺酸根的表面活性劑為十二烷基硫酸銨。

15.一種用于半導(dǎo)體制造中的化學(xué)機械研磨方法，是將研磨液組合物施涂于半導(dǎo)體晶圓表面以進行化學(xué)機械研磨，其中該組合物含有：

水性介質(zhì)；

研磨顆粒；

陰離子型表面活性劑；

且該組合物的pH值小于或等于7。

16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中研磨粒選自SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、CeO₂、SiC、Fe₂O₃、TiO₂、Si₃N₄或其混合物。

17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中研磨粒的含量為0.5-25重量％。

18.如權(quán)利要求15所述的方法，其中研磨粒的含量為1-10重量％。

19.如權(quán)利要求15所述的方法，其中陰離子型表面活性劑是含硫酸根和/或磺酸根的表面活性劑。

20.如權(quán)利要求15所述的方法，其中該陰離子型表面活性劑的含量為0.01-2.0重量％。

21.如權(quán)利要求20所述的方法，其中該陰離子型表面活性劑的含量為0.03-1.0重量％。

22.如權(quán)利要求15所述的方法，其中研磨液組合物尚可含有pH緩沖劑。

23.如權(quán)利要求22所述的方法，其中該pH緩沖劑為無機鹽類。

24.如權(quán)利要求23所述的方法，其中該無機鹽類為硝酸鹽類。

25.如權(quán)利要求24所述的方法，其中該硝酸鹽類為硝酸銨。

26.如權(quán)利要求25所述的方法，其中該硝酸鹽類的含量為0.0-5.0重量％。

27.如權(quán)利要求26所述的方法，其中該硝酸鹽類的含量為0.03-0.5重量％。

28.如權(quán)利要求19所述的方法，其中該含硫酸根和/或磺酸根的表面活性劑為十二烷基硫酸銨。