[發(fā)明專利]高溫?zé)崃鞴饪讨圃旆椒?/span>有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01101385.0 | 申請(qǐng)日: | 2001-01-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1363859A | 公開(kāi)(公告)日: | 2002-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃義雄;張峰源;賴建文;陳桂順 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 聯(lián)華電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/00 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 陶鳳波 |
| 地址: | 臺(tái)灣省新竹*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高溫 熱流 光刻 制造 方法 | ||
1.一種高溫?zé)崃鞴饪讨圃旆椒?,其包括?/p>
提供一高溫?zé)崃鞴庵驴刮g劑;
在該高溫?zé)崃鞴庵驴刮g劑中加入一交聯(lián)試劑,以形成一高溫?zé)崃鹘宦?lián)光致抗蝕劑;
提供一基底,該基底上形成有一絕緣層;
在該絕緣層上,形成一高溫?zé)崃鹘宦?lián)光致抗蝕劑層;
進(jìn)行一曝光制造工藝;
進(jìn)行一顯影制造工藝;以及
進(jìn)行一熱流制造工藝。
2.如權(quán)利要求1所述的高溫?zé)崃鞴饪讨圃旆椒?,其中該交?lián)試劑包括具有羥基苯甲酸結(jié)構(gòu)的一聚合物。
3.如權(quán)利要求1所述的高溫?zé)崃鞴饪讨圃旆椒?,其中該熱流制造工藝的溫度為攝氏150度至160度之間。
4.如權(quán)利要求1所述的高溫?zé)崃鞴饪讨圃旆椒?,其中該高溫?zé)崃鹘宦?lián)光致抗蝕劑中所含的該交聯(lián)試劑為2%至5%之間。
5.一種提高高溫?zé)崃鞴饪讨圃旃に嚨闹圃旃に囋6鹊姆椒?,其包括?/p>
提供一基底,該基底上形成有一絕緣層;
在該絕緣層上,形成一光致抗蝕劑層,其中該光致抗蝕劑層中含有具多個(gè)交聯(lián)官能團(tuán)的一聚合物;
進(jìn)行一軟烤制造工藝;
進(jìn)行一曝光制造工藝;
進(jìn)行一硬烤制造工藝;
進(jìn)行一顯影制造工藝;以及
進(jìn)行一高溫制造工藝,以使該光致抗蝕劑產(chǎn)生熱流以及使該聚合物產(chǎn)生交聯(lián)作用。
6.如權(quán)利要求5所述的提高高溫?zé)崃鞴饪讨圃旃に嚨闹圃旃に囋6鹊姆椒?,其中該些交?lián)官能團(tuán)包括羧基。
7.如權(quán)利要求5所述的提高高溫?zé)崃鞴饪讨圃旃に嚨闹圃旃に囋6鹊姆椒?,其中該聚合物包括具有羥基苯甲酸結(jié)構(gòu)的一聚合物。
8.如權(quán)利要求5所述的提高高溫?zé)崃鞴饪讨圃旃に嚨闹圃旃に囋6鹊姆椒?,其中該高溫制造工藝的溫度為攝氏150度至160度之間。
9.如權(quán)利要求5所述的提高高溫?zé)崃鞴饪讨圃旃に嚨闹圃旃に囋6鹊姆椒?,其中該高溫?zé)崃鹘宦?lián)光致抗蝕劑中所含的該交聯(lián)試劑為2%至5%之間。
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