[發(fā)明專利]平版印刷版所用原版無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01100287.5 | 申請日： | 2001-01-10 |
| 公開（公告）號： | CN1310360A | 公開（公告）日： | 2001-08-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 山崎純明 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09;G03F7/038;B41C1/055 |
| 代理公司： | 北京市專利事務所 | 代理人： | 王宏偉 |
| 地址： | 日本國神奈川*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 平版印刷 所用 原版 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種平版印刷版所用原版，其特征在于：其是具有在載體上的親水性絕熱層，和含有親水性高分子化合物層因加熱變?yōu)槭杷詡?cè)鏈的平版印刷版用的原版。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的平版印刷版所用原版，其特征在于：其是擁有所述的親水性高分子化合物形成的架橋結(jié)構(gòu)的親水性絕熱層的平版印刷版所用的原版。
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
