[發明專利]定子中的轉子具有簧載鎖止機構的尤其用于汽車的鎖裝置無效
| 申請號: | 00815510.0 | 申請日: | 2000-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN1390272A | 公開(公告)日: | 2003-01-08 |
| 發明(設計)人: | G·巴倫伯格 | 申請(專利權)人: | 胡夫休爾斯貝克及福爾斯特公司 |
| 主分類號: | E05B29/00 | 分類號: | E05B29/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 蘇娟,趙辛 |
| 地址: | 德國費*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定子 中的 轉子 具有 簧載鎖止 機構 尤其 用于 汽車 裝置 | ||
本發明涉及一種如權利要求1的前序部分所述類型的鎖裝置。這種裝置遭受無權者的撬開嘗試。一種撬開方法是通過所謂的“盜竊法”的一種萬能開鎖(Nachschliessen)。在這種情況下,轉子中的鎖止機構是未經允許的,即沒有揀選(einsortieren)相應配屬的規定鑰匙,轉子可以由一個破壞工具在定子中被轉動。這通過先后連續地抬起單個鎖止機構,同時對轉子施加轉矩來進行的。由于在鎖止機構和其在轉子中的導軌之間以及和定子中鎖眼尺寸之間的不可避免的誤差,被操縱的鎖止機構在除去轉矩后可以其外棱邊支承在定子中容納孔的內面上。因此該鎖止機構首先固定在其揀選的位置。相應的過程是以隨后的第二個鎖止機構實施。這最終也可以在所有其他的鎖止機構連續進行。這種方法由下述的情形支持。
各鎖止機構是在轉子中是單側彈簧加載的。由此因上述誤差而可產生鎖止機構在轉子中的翻轉;有一個轉矩作用于鎖止機構上,使該鎖止機構向轉動方向歪斜。轉子的該轉動方向在下面簡稱為“翻轉方向”。在翻轉方向比在相反的方向更容易進行通過盜竊法的前述萬能開鎖,該相反的方向以下稱為“反向翻轉方向”。這種裝置通常可從一個表示靜止位置的零位置向兩個方向轉動,在相應鎖或設備中這兩個方向起著不同功能。在一個轉動方向,即翻轉方向,可以使該裝置所配屬的鎖鎖定或者配屬的其他設備起作用,而在反向翻轉方向則解鎖或不起作用。未經允許的人可能想到進一步改進盜竊法,使得鎖止機構在其翻轉位置被操縱后相對轉子至少暫時地固定在其揀選的位置。這種固定可以通過一種冷噴(Kltespray)進行,這種方法使鎖止機構的徑向運動短時間內由于彈簧加載而不起作用;轉子和鎖止機構構成了一個暫時的剛性結構單元。然后這個結構單元借助破壞工具向反向翻轉方向回轉。此時暫時固定的鎖止機構通過鎖眼到達相對側,由此使到達一個工作位置,該位置通常只有用規定的鑰匙才能實現,例如使裝置所屬的鎖解鎖或者使相應的設備不起作用。因此通過這種略加改變的盜竊法,可以使比較簡單的盜竊法不僅可用來沿翻轉方向實現重要的鎖定功能,而且可通過冷噴或類似方法沿反向翻轉方向來撬開鎖。由于這種改進的撬開方法就產生了很大的危險,即轉子反向翻轉方向所保留的特別需要保護的鎖定功能受到了威脅。
本發明的任務是提供一種如權利要求1前序部分給出類型的簡單緊湊的鎖裝置,其無法被撬開或者很難撬開。根據本發明,該任務是通過權利要求1特征部分所述的措施實現的,其具有下述的特殊意義。
本發明的措施是,在實施了前述沿轉子翻轉反向的盜竊法后,鎖止機構不是位于轉子圓周上的完全的揀選位置,該位置對于通過破壞工具或類似物轉動轉子或反向翻轉轉子是必需的。為此由權利要求1特征部分所述的通道擴大部來負責。在沿翻轉反向操縱后,盡管轉子也位于一個轉動位置,但鎖止機構仍徑向伸出超過轉子的圓周。鎖止機構嚙合在通道擴大部中,在該處鎖止機構貼靠在一個指向內的支承面上。此時如果采用上述的破壞方法,在轉子被操縱的轉動位置中通過冷噴或類似方法固定鎖止機構,則對于反過來沿反向翻轉方向的轉動是無用的。即,在這種反向的轉動中,伸出超過圓周的鎖止機構撞到了鎖眼的對面側面上。從而轉子卡在定子中。由此阻止了撬開本發明的裝置。
其他優點和措施由從屬權利要求、下面的描述和附圖給出。在附圖中示出了本發明和現有技術的實施例。圖中以放大圖分別示出了處于不同位置的裝置橫截面。
圖1是現有技術的一種鎖裝置,其中鑰匙拔出來后轉子處于表示靜止位置的零位置,
圖2是圖1所示的鎖中插入了鑰匙,
圖3是圖1所示的鎖,其中通過一個未示出的破壞工具在圖示鎖止機構上沿轉子的翻轉方向成功地實施前述的盜竊法,
圖4類似于圖1,是根據本發明的裝置在插入相應鑰匙之前的開始狀態,
圖5類似于圖3,是對圖4所示的本發明的鎖實施盜竊法的起始階段,
圖6在對圖4所示的本發明裝置實施盜竊法時緊接在圖5所示之后的后一階段,
圖7是在對圖4所示的本發明裝置實施盜竊法時阻止撬開鎖的最后階段。
圖1至3示出了現有技術的鎖裝置10’,而在圖4至7示出了本發明的鎖裝置10。為了標明相應的構件,在兩種情況下使用了相同的附圖標記。如圖1至7所示,所述裝置10或10’主要存在以下相同結構。
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