[發明專利]彈性波裝置無效
| 申請號： | 00811020.4 | 申請日： | 2000-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN1391725A | 公開（公告）日： | 2003-01-15 |
| 發明（設計）人： | 吉田憲司;三須幸一郎;井幡光詞;酒井淳;永塚勉;山田朗;前田智佐子 | 申請（專利權）人： | 三菱電機株式會社 |
| 主分類號： | H03H3/10 | 分類號： | H03H3/10 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳,葉愷東 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 彈性 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種彈性波裝置，在壓電基板上形成了包括由導體構成的交叉指狀電極的電極的彈性波裝置，其特征在于：在上述交叉指狀電極上有厚度為100至1000埃的以氧化硅為主要成分的電介質薄膜。
2.一種彈性波裝置，在壓電基板上形成了包括由導體構成的交叉指狀電極的電極的彈性波裝置，其特征在于：在上述交叉指狀電極上有厚度為100至500埃的以氧化硅為主要成分的電介質薄膜。
3.一種彈性波裝置，在壓電基板上形成了包括由導體構成的交叉指狀電極的電極的彈性波裝置，其特征在于：在上述交叉指狀電極上有厚度為200至500埃的以氧化硅為主要成分的電介質薄膜。
4.根據權利要求1、2或3所述的彈性波裝置，其特征在于：利用CVD法制作上述電介質薄膜。
5.根據權利要求1、2或3所述的彈性波裝置，其特征在于：利用濺射法制作上述電介質薄膜。
6.根據權利要求5所述的彈性波裝置，其特征在于：將上述壓電體基板或備有壓電體薄膜的基板相對于濺射靶傾斜地配置，利用濺射法，從使上述電介質薄膜相對于垂直基板表面的方向傾斜的方向淀積上述電介質薄膜。
7.根據權利要求1至6中的任意一項所述的彈性波裝置，其特征在于：由構成包括上述交叉指狀電極的電極的導體構成的電極指呈平行于垂直基板表面方向的面，而且，沿垂直于穿過寬度方向的斷面呈梯形。
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