[發(fā)明專利]用于柔光輻照的裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00810153.1
• 申請(qǐng)日: 2000-06-20
• 公開（公告）號(hào): CN1360672A
• 公開（公告）日: 2002-07-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 戴維·G·錢格里斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 戴維·G·錢格里斯
• 主分類號(hào): F21V7/00
• 分類號(hào): F21V7/00;F21V29/02;F21V13/08;F21V9/00
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 王景林

發(fā)明背景

1.發(fā)明領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種產(chǎn)生梯度變化的柔光輻照的裝置，該裝置采用的輻射源在一螺旋形反射器內(nèi)偏偏離軸線線設(shè)置，上述螺旋形反射器完全封閉輻射源。本發(fā)明還涉及光學(xué)涂層與該裝置在一起的使用，以使該裝置能發(fā)射選擇性的窄通帶寬度的輻射。

2.現(xiàn)有技術(shù)說(shuō)明

A.目前所用的準(zhǔn)直器：目前所用的準(zhǔn)直器，如加透鏡的反射器和拋物面反射器，發(fā)射準(zhǔn)直的、在空間上相干的電磁能。在這些準(zhǔn)直器的孔徑處，所有的電磁能在空間上是相干的。空間上相干的光將產(chǎn)生清晰的陰影。

B.反射器設(shè)計(jì)：以螺旋為基礎(chǔ)的曲線已經(jīng)用于能量的收集。例如，美國(guó)專利No.3,974,824，太陽(yáng)能加熱裝置，公開了一種太陽(yáng)能加熱裝置，該裝置利用一個(gè)圓筒形反射器，該圓筒形反射器具有一個(gè)空間上延伸部分和一個(gè)拋物面式部分，用于將太陽(yáng)能集中在一個(gè)軸向上設(shè)置的吸收器上，該吸收器裝有待加熱的流體。在這個(gè)裝置中，進(jìn)入的能量沿著螺旋的軸線集中。

此外，螺旋式反射器已用來(lái)照明墻壁，按照美國(guó)專利No.4,564,888，墻壁照射燈具。然而，這個(gè)裝置的反射器只顯露出在反射器內(nèi)部使用燈泡，該反射器不完全封閉燈泡。

C.濾光片設(shè)計(jì)：普通濾光片常常吸收所希望的各波長(zhǎng)中50-90％，以便消除光譜的不想要部分。

發(fā)明概述

本發(fā)明的目的是提供一種用于柔光輻照的裝置，該裝置具有一個(gè)與電磁輻射源一起使用的螺旋形反射器，上述電磁輻射源這樣設(shè)置，以便保護(hù)輻射源免予直接觀察，并離開反射器任何焦軸安放；并使輻射源的輸出經(jīng)受至少一次反射，并且在沒(méi)有空間準(zhǔn)直情況下具有柔光或多角度式色散。

本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供輻射源的沖擊式冷卻，以便能有效地利用高強(qiáng)度輻射源。

本發(fā)明的另一個(gè)目的是通過(guò)在反射器或透射濾光片的表面上采用光學(xué)反射涂層而提供有選擇性的帶寬輸出。

本發(fā)明還有一個(gè)目的是將多個(gè)反射器相結(jié)合，以便均勻地照明復(fù)雜的或大的表面。

更具體地說(shuō)，本發(fā)明針對(duì)在螺旋式彎曲的反射器內(nèi)的電磁輻射線光源和點(diǎn)光源的偏離軸線定位，以便產(chǎn)生隨距離而具有近似線性功率下降的梯度變化的柔光輻照。多個(gè)螺旋體的接合可以調(diào)到均勻輻照各復(fù)雜表面。與目前所用的準(zhǔn)直器、如加透鏡的反射器和拋物面反射器相比，從本發(fā)明的輻射源中所發(fā)射的輻射，在沒(méi)有平行射線情況下，于孔徑處在空間色散，同時(shí)產(chǎn)生一個(gè)柔光輻照?qǐng)D案。此外，本發(fā)明針對(duì)將光學(xué)反射涂層應(yīng)用到螺旋式發(fā)生器的內(nèi)表面上，以便從較寬帶寬的光源中產(chǎn)生選擇性的窄通帶寬度輻射的發(fā)射。本發(fā)明的裝置將對(duì)光療法(輔助的反應(yīng)和內(nèi)生的反應(yīng)二者)、制革、照相術(shù)、平板印刷術(shù)、電磁激活的化學(xué)反應(yīng)、和熱傳送等領(lǐng)域有應(yīng)用。在脈沖式光源和連續(xù)光源二者情況下，將對(duì)這個(gè)設(shè)計(jì)有特殊的用途。

本發(fā)明的范圍內(nèi)一些裝置的例子在各附圖中示出并在以后加以說(shuō)明，但是應(yīng)該理解，這些裝置的附圖或者說(shuō)明都不代表作為本發(fā)明的限制，并且對(duì)該技術(shù)的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在看了此處所述的公開內(nèi)容時(shí)，將會(huì)想到也在本發(fā)明范圍之內(nèi)的另一些裝置。

時(shí)附圖的簡(jiǎn)要說(shuō)明

圖1是本發(fā)明裝置的透視圖。

圖2是圖1裝置的側(cè)視圖。

圖3是圖1裝置的頂視圖。

圖4是沿著圖3中線段4-4所作的剖視圖。氣流方向圖用箭頭示出。

圖5是本發(fā)明的小室和反射器裝置的前視圖。氣流方向圖用箭頭示出。

圖6是沿著圖5中線段6-6所作的剖視圖。相對(duì)于左面反射器的氣流方向圖用箭頭示出(相對(duì)于右面反射器的氣流方向圖略去)。

圖7是用于本發(fā)明利用光學(xué)反射涂層的裝置典型反射曲線。

圖8與圖4相同的側(cè)面剖視圖，該圖示出一對(duì)跨越反射器內(nèi)部開口偏置的透射濾光片。氣流方向圖用箭頭示出。

圖9也是與圖4相同的側(cè)面剖視圖，該圖示出跨越反射器開口的單塊透視濾光片。

圖10是本發(fā)明的裝置可供選擇的實(shí)施例透視圖。氣流方向圖用箭頭示出。

圖11是本發(fā)明的裝置另一個(gè)實(shí)施例透視圖。氣流方向圖用箭頭示出。

圖12是本發(fā)明的裝置另一個(gè)實(shí)施例透視圖。

對(duì)優(yōu)選實(shí)施例的說(shuō)明

如圖1所示，本發(fā)明的一種優(yōu)選裝置包括一個(gè)螺旋形反射器10和一個(gè)電磁輻射源12。該裝置通過(guò)輻射源12的偏偏離軸線線設(shè)置，產(chǎn)生梯度變化的柔光輻照，上述輻射源12這樣完全封閉在螺旋形反射器10的內(nèi)部，以使該裝置只發(fā)出反射的輻射。換句話說(shuō)，螺旋形反射器10這樣完全封閉輻射源12，以使輻射源12不能直接從反射器10的外部看到。因此，從該裝置發(fā)射的所有輻射都至少反射一次，同時(shí)產(chǎn)生所發(fā)射輻射的強(qiáng)度更直線下降。