[發明專利]用于收集和會聚光的系統無效
| 申請號: | 00809849.2 | 申請日: | 2000-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN1359477A | 公開(公告)日: | 2002-07-17 |
| 發明(設計)人: | 肯尼斯·K·利;約瑟芬·洛匹茲 | 申請(專利權)人: | 考金特光學技術公司 |
| 主分類號: | G02B17/06 | 分類號: | G02B17/06;G02B19/00;F21V8/00;G02B6/42 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 王敬波 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 收集 和會 聚光 系統 | ||
1、一種裝置,包括:
電磁輻射源;
待被由所述源發射的至少一部分電磁輻射照射的目標;
收集反射器,其具有一凹反射面和穿過該反射面形成的孔;和聚焦反射器,其具有一凹反射面和穿過該反射面形成的孔,所述收集和聚焦反射器被定位和定向為使得它們各自的凹反射面處于相對的、面對面的關系,
所述源被如此定位和定向,使得由該源發射的至少一部分電磁輻射穿過在所述聚焦反射器上形成的孔而到達所述收集反射器的所述凹反射面,所述收集反射器將入射在其上的至少一部分電磁輻射反射到所述聚焦反射器的所述凹反射面,所述聚焦反射器被構造和放置為使得由其凹表面反射的至少一部分電磁輻射被聚焦并穿過形成于所述收集反射器上的孔,所述目標被定位和定向以用于接收由所述聚焦反射器反射的且穿過形成于所述收集反射器上的孔的至少一部分被聚焦的電磁輻射。
2、根據權利要求1的裝置,其中所述收集和聚焦反射器的所述凹反射面為拋物面形狀。
3、根據權利要求1的裝置,其中所述收集反射器具有一光軸和在所述光軸上的焦點,所述聚焦反射器具有一光軸和在所述光軸上的焦點,其中所述源位于緊鄰所述收集反射器的所述焦點的位置,所述目標位于緊鄰所述聚焦反射器的所述焦點的位置。
4、根據權利要求3的裝置,其中所述收集和聚焦反射器的所述光軸相互重合并且延伸穿過在所述收集和聚焦反射器上形成的孔。
5、根據權利要求1的裝置,還包括一關于所述源定位的回射器,用以將從所述源發射的沿離開在所述聚焦反射器上形成的孔的方向的輻射反射回到該穿過所述聚焦反射器所形成的孔。
6、根據權利要求1的裝置,還包括置于所述收集和聚焦反射器之間的聚焦透鏡,所述聚焦透鏡被構造并放置為接收穿過在所述聚焦反射器上形成的孔的一部分電磁輻射,并且聚焦所接收的電磁輻射,使其穿過在所述收集反射器上形成的孔到達所述目標上。
7、根據權利要求6的裝置,其中所述聚焦透鏡可由以下材料制成:塑料、玻璃或者石英。
8、根據權利要求6的裝置,其中所述聚焦透鏡被涂覆有抗反射涂層。
9、根據權利要求6的裝置,其中所述收集反射器具有一光軸和在所述光軸上的焦點,所述聚焦反射器具有一光軸和在所述光軸上的焦點,所述收集和聚焦反射器的所述光軸相互重合并且延伸穿過在所述收集和聚焦反射器上形成的孔,并且其中所述聚焦透鏡的光軸與所述收集和聚焦反射器的光軸重合。
10、根據權利要求1的裝置,其中所述目標包括波導的輸入部分。
11、根據權利要求10的裝置,其中所述波導包括光纖。
12、根據權利要求11的裝置,其中所述波導包括被排列為光纖束的多個光纖。
13、根據權利要求10的裝置,其中所述波導包括均質器。
14、根據權利要求13的裝置,其中所述均質器具有圓形剖面形狀。
15、根據權利要求13的裝置,其中所述均質器具有多邊形剖面形狀。
16、根據權利要求15的裝置,其中所述均質器的形狀可以是三角形、矩形、五邊形、六邊形和八邊形。
17、根據權利要求1的裝置,其中所述電磁輻射源包括弧光燈。
18、根據權利要求17的裝置,其中所述源包括可以為氙燈、金屬鹵化物燈、鹵素燈、和水銀弧光燈的弧光燈。
19、根據權利要求6的裝置,還包括:
至少一個附加的收集發射器和相應數目的附加的聚焦反射器,每一個所述附加的收集和聚焦反射器在其上均形成有一孔,所述收集和聚焦反射器以相對的收集-聚焦反射器對被置于一公共光軸上;
至少一個附加的電磁輻射源,使得所述電磁輻射源的總數目對應于收集-聚焦反射器對的總數目;和
至少一個附加的聚焦透鏡,使得所述聚焦透鏡的總數目對應于收集-聚焦反射器對的總數目,每一個所述聚焦透鏡被置于相關的一個所述收集-聚焦反射器對的相對的收集和聚焦反射器之間。
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