[發明專利]構件和在構件上制造保護層的方法有效
| 申請號： | 00809833.6 | 申請日： | 2000-05-12 |
| 公開（公告）號： | CN1165668C | 公開（公告）日： | 2004-09-08 |
| 發明（設計）人： | 弗里德赫爾姆·施米茨 | 申請（專利權）人： | 西門子公司 |
| 主分類號： | F01D5/28 | 分類號： | F01D5/28;C22C21/02;C23C2/12;C23C24/10;C23C10/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 侯宇;陶鳳波 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 構件 制造 保護層 方法 | ||
【說明書】：
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