[發明專利]一種集成光學器件的生產方法

無效

• 申請號: 00808143.3
• 申請日: 2000-05-24
• 公開（公告）號: CN1352763A
• 公開（公告）日: 2002-06-05
• 發明（設計）人: S·W·羅伯茨
• 申請（專利權）人: 布克哈姆技術公共有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B6/12;G02B6/34;G03F7/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 林長安

1.一種在基片上制作集成光學器件的方法，所述器件包括各含有至少一個光學元件的第一和第二區，所述第一和第二區被相對無特征部分的第三區分隔開，所述第三區提供了所述第一和第二區之間的光學連通；所述方法使用了照相平版印刷(法)的步進器來限定所述基片上光學元件的特征部分，可以將所述第一區的光學元件的特征部分限制在第一曝光區域和將所述第二區的光學元件的特征部分限制在第二曝光區域；所述步進器在曝光區域之間移動使所述第一和第二曝光區域相接觸，使所述第一和第二區域之間的重疊區或接觸線位于所述基片上相對無特征部分的所述第三區內。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述區域基本是矩形。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述區域的面積至少為400mm²，最好至少為750mm²。

4.根據權利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述矩形區域是平齊的，故所述重疊區的縱軸線或接觸線與從所述第一區域射到所述第二區域的光線方向不正交。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述重疊區的縱軸線或接觸線與從所述第一區域射到所述第二區域的光線方向的正交方向間的角度至少是45°，最好至少是60°。

6.根據前面權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述步進器在各曝光期可縮小所述光學元件的特征部分，縮小的程度要達到至少是系數3，最好至少是系數5。

7.根據前面權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述基片包括硅片。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述基片包括硅-絕緣體片。

9.根據前面權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述步進器達到的分辨率在0.25μm到0.70μm之間，最好是大約0.35μm。

10.利用前面權利要求中任一項所述的方法得到的集成光學元件。

11.如權利要求10所述的集成光學元件包括波導光柵陣列。

12.如權利要求10或11所述的集成光學元件的尺寸精度在0.25μm到0.70μm之間，最好是大約為0.35μm。