[發明專利]可調諧微波設備

有效

• 申請號: 00806247.1
• 申請日: 2000-04-11
• 公開（公告）號: CN1347577A
• 公開（公告）日: 2002-05-01
• 發明（設計）人: E·卡爾松;P·佩特羅夫;O·文迪克;E·維克堡;Z·伊瓦諾夫
• 申請（專利權）人: 艾利森電話股份有限公司
• 主分類號: H01P1/203
• 分類號: H01P1/203;H01P7/08;H01G7/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 羅朋,陳霽

1.一種電可調諧設備(10；20；30；40；50)，例如對于微波的，包括一個載體基底(1；1’；1”；1A-1C)，傳導裝置(3A，3B；3A’，3B’；3A”，3B”；3A₁，3B₁；3A₂，3B₂；3A₃，3B₃)和至少一個有源鐵電體層(2；2’；2”；2A₁，2A₂，2A₃)，

其特征在于

在至少一些傳導裝置(3A，3B；3A’，3B’；3A”，3B”，3A₁，3B₁；3A₂，3B₂；3A₃，3B₃)和一個鐵電體層(2；2’；2”；2A₁，2A₂，2A₃)之間放置有由包括一個非鐵電體材料的薄膜結構所構成的一個緩沖層(4；4’；4”；4A₁，4A₂，4A₃；4C，4D)。

2.根據權利要求1的一種設備，

其特征在于

該薄膜設備(4；4’；4”；4A₁，4A₂，4A₃；4C，4D)包括一個薄的非鐵電體層。

3.根據權利要求1的一種設備，

其特征在于

該薄膜結構包括一個多層結構(4”；4A₁，4A₂，4A₃)，該多層結構包括一些非鐵電體層。

4.根據權利要求2或3的一種設備，

其特征在于

一些非鐵電體層(2A₁，2A₂，2A₃)和非鐵電體層(4A₁，4A₂，4A₃)被以一種交替方式，緊鄰該傳導裝置(3A₁，3B₁)排列。

5.根據權利要求1-3中任一項的一種設備，

其特征在于

該鐵電體層(2；2’；2A₃)被放置在載體基底(1；1’；1A)的頂部，該非鐵電體薄膜結構(4；4’；4A₁)被排列在鐵電體層的頂部并在于該傳導裝置(3A，3B；3A’，3B’；3A₁，3B₁)被放置在非鐵電體結構的頂部。

6.根據權利要求1-3中任一項的一種設備，

其特征在于

該鐵電體層(2”)放置在該非鐵電體結構(4”)上，該非鐵電體結構被放置在放置于基底上的傳導裝置(3A”，3B”)的頂部。

7.根據上述權利要求中任一項的一種設備，

其特征在于

該傳導裝置包括兩個縱向排列的電極(3A，3B；3A’，3B’；3A”，3B”；3A₁，3B₁；3A₂，3B₂；3A₃，3B₃)，在它們之間有一個間隙。

8.根據權利要求1-4中任一項的一種設備，

其特征在于

提供有第二傳導裝置(3A₃，3B₃)并在于一個非鐵電體層(4D)被放置在所述第二傳導裝置(3A₃，3B₃)和鐵電體層(2C)之間。

9.根據上述權利要求中任一項的一種設備，

其特征在于

該非鐵電體緩沖層結構被沉積在鐵電體層之內。

10.根據權利要求1-6中任一項的一種設備，

其特征在于

該非鐵電體緩沖層結構被沉積在該鐵電體層之外。

11.根據權利要求7或8的一種設備，

其特征在于

該非鐵電體層結構通過使用激光沉積，濺射，物理或化學的汽相沉積或熔膠-凝膠技術而沉積。