[發明專利]用于盤片驅動器的裝載/卸載提升片無效
| 申請號: | 00805954.3 | 申請日: | 2000-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN1346487A | 公開(公告)日: | 2002-04-24 |
| 發明(設計)人: | 托馬斯·R·阿爾布雷克特;威廉·J·科茲洛夫斯基;格林德·P·辛格;麥克·薩克 | 申請(專利權)人: | 國際商業機器公司 |
| 主分類號: | G11B5/54 | 分類號: | G11B5/54;G11B21/22;B23K26/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 李瑞海 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 盤片 驅動器 裝載 卸載 提升 | ||
????????????????????技術領域
本發明涉及對盤片驅動器內的裝載/卸載提升片的平整,這種提升片一般與盤片驅動器中的裝載/卸載斜面相互作用以從盤片表面上提升讀/寫頭。
????????????????????背景技術
計算機硬盤驅動器一般采用具有磁性數據存儲材料涂層的多個高速旋轉的盤片。每個盤片與非常靠近盤片表面固定的磁性讀/寫頭配合。磁性讀/寫頭在移動時能夠讀/寫磁盤上的數據。
一些硬盤驅動器所具有的盤片帶有不粘附部分,磁頭在不粘附部分上停留超過一段時間,該部分也不會導致磁頭損壞。這種硬盤驅動器就是公知的接觸啟動/停止型(CSS)硬盤驅動器。CSS硬盤驅動器不需要提升片或裝載/卸載斜面。
通過與盤片一起移動的氣墊,來防止這種磁頭接觸盤片表面。典型地,在盤片移動時,磁頭離開盤片約0.02微米。
在驅動器工作期間,需要磁頭和盤片間的間隔非常小。這就要求磁頭和盤片表面非常光滑。在非CSS硬盤驅動器中,當盤片未轉動時(即,當沒有給硬盤驅動器提供能量時)磁頭和盤片表面不接觸,是很重要的。如果盤片和磁頭靜止并接觸了一段時間,那么,磁頭和盤片表面會粘附在一起,當盤片開始轉動時,就會導致盤片表面的損壞。在一些情況下,該粘附力會阻礙盤片整體轉動。另外,盤片必須從靜止啟動,并需要一定的最小速度以將磁頭浮在盤片表面上。因此,硬盤驅動器的每次啟動都會導致磁頭和盤片表面摩擦一段距離,直到盤片達到足夠的速度來形成氣墊。
由于這些原因,在一些硬盤驅動器中使用了裝載/卸載斜面構件,以在硬盤驅動器不工作時使磁頭保持離開盤片表面。當盤片已經達到使磁頭浮在盤片表面上所需的最小轉速時,從斜面構件上釋放磁頭。CSS硬盤驅動器沒有裝載/卸載斜面構件或提升片。
圖1(現有技術)示出具有三個盤片2的典型的現有技術裝載/卸載型硬盤驅動器。驅動器臂3支撐著懸承件4、滑塊5和提升片6。磁性讀/寫頭(未示出)位于滑塊5的底面上。懸承件4和滑塊5一同構成了磁頭臂組件。驅動器臂3圍繞樞轉立柱9樞轉。提升片6位于懸承件4上,而接合斜面構件10上的斜面8。該斜面8在提升片6上作用一個向上的力,將滑塊5和磁頭從盤片2上升起。從而,只要提升片6移動到斜面8上時,磁頭就不會與盤片2接觸。為了使提升片6從盤片上提升滑塊5,提升片6必須與斜面8摩擦。
雖然圖1中未示出,但是,硬盤驅動器還具有另外的臂、懸承件和滑塊,這樣對于每個盤片表面至少具有一個懸承件和一個滑塊。
圖2(現有技術)示出接合斜面8的提升片6的特寫側視圖。圖中示出了提升片6的三個不同位置。提升片6的倒圓的底面12必須與斜面8摩擦,以能夠從盤片2上提升滑塊?;瑝K5隨著提升片從左向右移動而從盤片上卸載,隨著提升片從右向左移動而被裝載到盤片2上。
典型地,斜面構件10由低摩擦聚合物材料制成。低摩擦斜面8減小了卸載磁頭所需的能量(在未供能卸載過程中要考慮的問題)。
提升片一般由諸如不銹鋼的金屬制成。由于它們比(塑料制成的)斜面構件硬,所以,提升片在裝載和卸載過程中會磨損斜面。磨損會在硬盤驅動器中產生雜質顆粒,而這些雜質顆粒會損壞敏感的滑塊/盤片界面。因此,必須使提升片底面(接觸斜面的表面)盡可能光滑。當在斜面表面上摩擦時,光滑的提升片表面能夠產生較少的顆粒。
尤其要關注的是由片狀金屬沖壓成的提升片。這是由于制造片狀金屬的工藝以及沖壓工藝會產生較粗糙的表面。
用在某些IBM產品中平整提升片的方法是將提升片壓在非常光滑且非常硬的模具上。這種精壓工藝通過使提升片表面內的裂紋閉合且使突起平面化而平整其表面。但光潔度受到模具表面質量以及所用的壓力的限制。通過精壓工藝平整的提升片在同斜面摩擦時仍產生大量的顆粒,在硬盤驅動器內產生顆粒雜質,從而減小了可靠性。
?????????????????????發明內容
相應地,本發明提供了一種用于平整金屬提升片表面上的區域的方法,其中提升片具有有一特征深度的表面粗糙形貌,該方法包括以下步驟:a)用具有足以使提升片表面熔化的能量密度的能量脈沖加熱該區域,其中要加熱足夠長的時間,使提升片熔化的深度大于表面粗糙形貌的特征深度,其中該區域被熔化的深度要小于10微米;b)冷卻該區域以使該區域凝固。
這種用于平整提升片的方法一般能夠產生非常光滑的提升片表面;成本相對低廉;可發展為光滑提升片的大規模生產;適應廣泛的提升片結構和形狀;并能夠用在不銹鋼提升片上。
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