[發(fā)明專利]在烴裂解反應(yīng)器的反應(yīng)管內(nèi)壁形成涂層的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 00805670.6 | 申請(qǐng)日: | 2000-10-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1345261A | 公開(kāi)(公告)日: | 2002-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜信喆;崔安燮;曹東鉉;崔烍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | SK株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | B05D7/22 | 分類號(hào): | B05D7/22 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 過(guò)曉東 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裂解 反應(yīng)器 反應(yīng) 內(nèi)壁 形成 涂層 方法 | ||
1、一種在烴裂解反應(yīng)器的反應(yīng)管內(nèi)壁上在線涂布連續(xù)無(wú)機(jī)涂膜的方法,以阻止焦炭在所述反應(yīng)管內(nèi)壁上的生成和沉積,包括:
將烷氧基金屬氣相沉積在所述反應(yīng)管內(nèi)壁上作為擴(kuò)散阻隔層,與此同時(shí),在600~900℃的溫度、0~3千克/厘米2的壓力下,以1~5000千克/小時(shí)/盤(pán)管的流率通入載氣。
2、如權(quán)利要求1所述的方法,其中,在形成擴(kuò)散阻隔層之前,在所述反應(yīng)管的內(nèi)壁上直接形成一緩沖層;緩沖層由烷氧基金屬和鉻化合物的混合溶液氣相沉積在反應(yīng)管內(nèi)壁上而成,與此同時(shí),在600~900℃的溫度、0~3千克/厘米2的壓力下,以1~5000千克/小時(shí)/盤(pán)管的流率通入載氣。
3、如權(quán)利要求1或2所述的方法,還進(jìn)一步包括形成一除焦層,該除焦層由氣相沉積烷氧化物與堿金屬或堿土金屬氧化物的混合物到所述無(wú)機(jī)涂膜上而成,與此同時(shí),在600~900℃的溫度、0~3千克/厘米2的壓力下,以1~5000千克/小時(shí)/盤(pán)管的流率通入載氣。
4、如權(quán)利要求要求1或2所述的方法,其中,所述載氣選自于氮?dú)狻⒑狻鍤狻⒍趸肌⒖諝狻⒀鯕夂驼羝械囊环N。
5、如權(quán)利要求1所述的方法,其中,以通入反應(yīng)器的載氣總量計(jì),所述無(wú)機(jī)涂膜由0.001~10wt%的烷氧基金屬沉積而成。
6、如權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述無(wú)機(jī)涂膜的厚度為4~12μm。
7、如權(quán)利要求2所述的方法,其中,所述烷氧基金屬和鉻化合物各自引入反應(yīng)管,其量為載氣總量的0.001~10wt%。
8、如權(quán)利要求7所述的方法,其中,所述的量為0.05~1.0wt%
9、權(quán)利要求2所述的方法,其中,所述的緩沖層的厚度為1~5μm。
10、如權(quán)利要求1、2和5中的任一方法,其中,所述的烷氧基金屬選自于四乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、叔丁氧基鈦、異丙氧基鈦、乙酰丙酮鋁、三異丙氧基鋁及其混合物。
11、如權(quán)利要求2所述的方法,其中,所述的鉻化合物選自于乙酰丙酮鉻、羰基鉻、2-乙基己酸鉻(III)、六氟乙酰丙酮鉻(III)及其混合物。
12、如權(quán)利要求所述3的方法,其中,所述的堿金屬或堿土金屬化合物選自于乙酰丙酮鉀、四甲基庚二酮酸鉀、乙酸鉀、乙酰丙酮鈣、四甲基庚二酮酸鈣、乙酸鈣、丙酮酸鎂、四甲基庚二酮酸鎂、乙酸鎂、乙酰丙酮鋇、四甲基庚二酮酸鋇、乙酸鋇、乙酰丙酮鋰、四甲基庚二酮酸鋰、乙酸鋰及其混合物。
13、如權(quán)利要求3或10所述的方法,其中,所述的堿金屬或堿土金屬化合物是以占載氣總量的0.001~10wt%的量引入反應(yīng)器的。
14、如權(quán)利要求3或10所述的方法,其中,所述阻隔層的厚度為0.1~2μm。
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