[發(fā)明專利]石英玻璃坩堝及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 00804068.0 | 申請(qǐng)日: | 2000-12-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1341080A | 公開(公告)日: | 2002-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | W·維德克;J·萊斯特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 赫羅伊斯石英玻璃股份有限兩合公司 |
| 主分類號(hào): | C03B19/09 | 分類號(hào): | C03B19/09;C30B15/10;C30B35/00;C03C3/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 盧新華,譚明勝 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 石英玻璃 坩堝 及其 制造 方法 | ||
1.一種石英玻璃坩堝,它具有圍繞旋轉(zhuǎn)軸對(duì)稱的不透明石英玻璃坩堝體,該坩堝體具有不透明石英玻璃的外區(qū)(3),該外區(qū)徑向向內(nèi)向密度至少為2.15g/cm3的透明石英玻璃的內(nèi)區(qū)(4)過渡,其特征在于,坩堝體(1)由比表面(按BET)為0.5m2/g-40m2/g的、搗實(shí)密度至少為0.8g/cm3的合成SiO2-顆粒物制成,該顆粒物由SiO2-基粒的至少部分多孔的聚集體構(gòu)成。
2.權(quán)利要求1的石英玻璃坩堝,其特征在于,坩堝體(1)由比表面(按BET)為2m2/g-20m2/g的、搗實(shí)密度為1.0g/cm3-1.4g/cm3的合成SiO2-顆粒物制成。
3.權(quán)利要求1或2的石英玻璃坩堝,其特征在于,在內(nèi)區(qū)(4)范圍內(nèi)的石英玻璃的亞穩(wěn)態(tài)OH-含量最大為20wppm。
4.上述權(quán)利要求之一的石英玻璃坩堝,其特征在于,石英玻璃的牢固結(jié)合的羥基含量最大為40wppm。
5.上述權(quán)利要求之一的石英玻璃坩堝,其特征在于,不透明外區(qū)(3)和透明內(nèi)區(qū)(4)由同一種合成SiO2-顆粒物制成。
6.權(quán)利要求1-5之一的石英玻璃坩堝,其特征在于,不透明外區(qū)(3)由第一種密度較小的SiO2-顆粒物制成,而內(nèi)區(qū)(4)由第二種密度較高的SiO2-顆粒物制成。
7.上述權(quán)利要求之一的石英玻璃坩堝,其特征在于,內(nèi)區(qū)(4)由SiO2-顆粒物制成,該顆粒物至少部分由合成方英石組成。
8.上述權(quán)利要求之一的石英玻璃坩堝,其特征在于,內(nèi)區(qū)(4)從內(nèi)表面向外區(qū)(3)的方向延伸達(dá)2mm。
9.上述權(quán)利要求之一的石英玻璃坩堝,其特征在于,內(nèi)區(qū)(4)配置有由透明石英玻璃組成的內(nèi)層(2)。
10.一種制造石英玻璃坩堝的方法,該方法包括制備可圍繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的并具有內(nèi)壁的模具;將SiO2-顆粒裝入模具中,在模內(nèi)壁上形成顆粒層;在模具旋轉(zhuǎn)下從內(nèi)向外加熱顆粒層,形成有不透明外區(qū)的玻璃化坩堝體,其特征在于,作為SiO2-顆粒,采用由合成制造的SiO2-基粒的至少部分多孔的聚集體形成的SiO2-顆粒物(21;31),該顆粒物的比表面(按BET)為0.5m2/g-40m2/g,搗實(shí)密度至少為0.8g/cm3,而且其加熱如此進(jìn)行,即在形成由透明石英玻璃組成的內(nèi)區(qū)時(shí),玻璃化鋒面由內(nèi)向外移動(dòng)。
11.權(quán)利要求10的方法,其特征在于,采用的比表面(按BET)為2m2/g-20m2/g之的、搗實(shí)密度為1.0g/cm3-1.4g/cm3的SiO2-顆粒物。
12.權(quán)利要求10或11的方法,其特征在于,SiO2-顆粒物(21;31)以SiO2-基粒的至少部分多孔的聚集體的形式使用,該基粒的平均粒度為0.5μm-5μm。
13.權(quán)利要求10-12之一的方法,其特征在于,SiO2-顆粒物(21;31)以SiO2-基粒的至少部分多孔的聚集體的形式使用,該基粒的平均粒度小于0.2μm。
14.權(quán)利要求10-13之一的方法,其特征在于,采用的顆粒物(21;31)由不均勻密度分布的SiO2-顆粒組成,其中較低密度的內(nèi)部區(qū)域(22;32)至少部分被較高密度的外部區(qū)域包圍。
15.權(quán)利要求10-14之一的方法,其特征在于,SiO2-顆粒物(21;31)的比表面的搗實(shí)密度通過熱處理調(diào)節(jié),該熱處理包括在800℃-1450℃的燒結(jié)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于赫羅伊斯石英玻璃股份有限兩合公司,未經(jīng)赫羅伊斯石英玻璃股份有限兩合公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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