[發明專利]以氫氣或氘氣使玻璃光致敏的方法及用該方法制造的波導

無效

• 申請號: 00803975.5
• 申請日: 2000-01-27
• 公開（公告）號: CN1341222A
• 公開（公告）日: 2002-03-20
• 發明（設計）人: G·E·克恩克;D·W·奈廷格爾;P·G·威格利
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G02B6/18
• 分類號: G02B6/18;G03F7/38;G03F7/24;G03F7/26
• 代理公司: 上海專利商標事務所
• 代理人: 錢慰民

1.一種提高光波導感光性的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

對光波導加載一種氣體以形成一相關的本底折射率，所述氣體為H₂或D₂；

至少處理一部分所述加載光波導，以改變所述處理部分的本底折射率；

使所述氣體散離所述加載光波導，以穩定本底折射率的被造成的改變，在擴散步驟后，所述光波導保留了足以相對本底折射率經穩定的改變再產生大于10^-5折射率變化的紫外感光性；和

至少處理所述處理部分，使本底折射率經穩定的改變發生變化。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一處理步驟包括用均勻紫外輻射光束照射的步驟。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一處理步驟包括用非均勻紫外輻射光束照射的步驟。

4.如權利要求2所述的方法，其特征在于，在擴散步驟后還包括將光柵寫入所述光波導的步驟。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，寫入光柵的步驟包括寫入FBG器件或寫入LPG器件的步驟。

6.如權利要求3所述的方法，其特征在于，在擴散步驟后還包括將一抽樣光柵寫入所述光波導的步驟。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述處理步驟包括用紅外輻射照射的步驟。

8.一種調諧光柵的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

對光波導加載一種氣體，所述氣體為H₂或D₂；

用輻射至少照射一部分所述加載光波導，以便將一光柵寫入所述加載光波導的所述至少一部分中；

使所述氣體散離所述加載光波導；和

對所述被照射部分的至少一部分進行輻射曝光，以改變所述光柵的折射率。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述照射步驟包括下述步驟：

使紫外輻射通過一振幅掩模，以在所述光波導中形成LPG；或者

使紫外輻射通過一相位掩模，以在所述光波導中形成FBG。

10.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述曝光步驟包括用均勻的紫外輻射光束泛光照射所述光波導的所述至少一部分。

11.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述曝光步驟包括用紅外輻射至少泛光照射所述輻射部分。

12.在一種用于提高光波導感光性的方法中，對光波導加載氫氣以形成一相關的本底折射率，至少處理一部分加載光波導以改變本底折射率，并且使氫氣散離加載光波導，從而穩定本底折射率的被造成的改變，所述改進在于：

至少處理所述經處理的部分，使折射率經穩定的變化改變10^-5以上。

13.一種用權利要求1所述方法制造的光波導，其特征在于，所述第一處理步驟包括用均勻的紫外輻射光束進行照射的步驟。

14.如權利要求13所述的光波導，其特征在于，在擴散步驟之后還包括將一光柵寫入所述光波導的步驟。

15.如權利要求14所述的光波導，其特征在于，寫入光柵的步驟包括寫入FBG器件的步驟或寫入LPG器件的步驟。