[發明專利]用于改進放射療法的方法

無效

• 申請號: 00803059.6
• 申請日: 2000-01-25
• 公開（公告）號: CN1337886A
• 公開（公告）日: 2002-02-27
• 發明（設計）人: E·瓦克特;J·斯莫利克;H·C·迪斯
• 申請（專利權）人: 福托金公司
• 主分類號: A61K51/00
• 分類號: A61K51/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 唐曉峰

??????????????????發明背景

本發明涉及用于對組織的特定體積如異常細胞增殖或惡性組織進行放射治療的方法和組合物。具體地說，本發明涉及新穎的方法，該方法是將放射致敏劑和大量電離放射源基本分布于組織體積中，以產生均勻遍布于組織體積中的治療區域。本發明還特別涉及用于治療所述組織的新藥劑，其中包括由放射致敏劑和電離放射源結合而形成的可注射治療藥劑。

眾所周知，癌癥中出現的異常細胞增殖可采用如電離放射即放射療法來治療。在放射療法中(典型地但不必需地使用1千電子伏特或更高能量的電磁輻射)，可采用外部放射源或置于需治療組織內部的放射源來發射射線。已知放射療法的一個缺點是對接受治療的主要位點周圍的健康組織會造成附帶損害。因此，放射治療面臨的一個主要問題就是向需治療組織如癌性腫瘤選擇性地運送治療量的射線。一種定位射線效果的技術是用放射致敏或不透射線的射線致敏劑與所發射的射線結合。當將這些藥劑引入需治療的組織時，它們可增強用致敏劑治療的組織中射線的效果，并在腫瘤中產生放射劑量增強(DE)效應。

然而，致敏劑的使用僅是一個進步，但并不是放射療法存在問題的圓滿解決方式。采用這種方法時仍有許多值得注意的問題，特別是如何對需治療的組織或治療體積施以均勻的治療。例如，當給予不透射線的射線致敏劑后，治療性放射劑量向整個治療體積的均勻運送總是受到放射致敏劑屏蔽的治療體積的阻滯。

更具體地說，當使用外部輻射時，射線從身體以外的放射源中發射出來，而最接近于放射源的治療組織中的放射致敏劑可能對電離射線末端的組織造成屏蔽或阻滯。因此，僅部分治療組織得到有效放射劑量。

同樣地，當將狹窄放射源如放射性探針或金屬絲或帶的尖端直接引入或接近于于需治療組織中時(通常稱為近程放射療法)，最接近于放射源的放射致敏劑會對組織的剩余部分所需的放射劑量造成屏蔽。其結果是不能對組織體積如腫瘤提供均勻的治療。

因此，本發明的一個目的是改善對腫瘤等組織特定體積放射治療的均勻度。

本發明的另一個目的是提供用于對需治療組織體積進行更均勻放射治療的方法和藥劑。

??????????????????????發明簡述

本發明涉及組織特定體積的治療方法。該方法包括將放射致敏劑分布于組織體積中，并將大量電離放射源分布于組織體積中，每一放射源均可產生一個放射治療區域。放射源分布于組織體積中，使得大量放射源的治療區域通常均勻地分布于所述組織體積中，并且基本上所有所述特定體積的組織位于至少一個放射治療區域中。

在本發明一個優選實施方案中，放射致敏劑和/或放射源基本上均勻分布于特定體積中，這樣就向特定體積內部組織提供了更為均勻的治療。按照本發明的另一方面，每一治療區域與至少一種其它治療區域重疊，這樣可確保對特定體積中的組織提供更有效的治療。

按照本發明的其他方面，放射致敏劑和電離放射源的分布可先后或同時進行，例如一同注入或接近于組織的特定體積，而另一方面，可先后給予放射致敏劑和電離放射源而使它們實現分布。

按照本發明的另一方面，為避免對健康的或特定體積以外的其他組織的不當影響，優選放射源的治療區域基本不超出所述組織的特定體積。

本發明另一方面還涉及治療組織的藥劑。優選地，該藥劑包括一種放射致敏劑和一種電離放射源組分，放射致敏劑組分和電離放射源組分結合而形成可注射的治療藥劑。該藥劑可以為任何適宜的形式，但是本發明優選為液體或凝膠。同時，放射致敏劑和電離放射源也可共軛而形成可注射的藥劑。

下面的所附權利要求和詳細說明書將對本發明的許多方面進行一些闡述和描述。

附圖簡述

圖1a表示先有治療方法對治療區域內部和末端部分的屏蔽實施例。

圖1b表示采用內部放射源的先有治療方法對治療區域末端部分的屏蔽實施例。

圖2a表示需治療組織中單一可腫瘤彌散性放射性物質與腫瘤特異性放射致敏劑結合的效果。

圖2b為本發明的一個優選實施方案，其中圖2a治療組織中的可腫瘤彌散性放射性物質為復合實體。

圖3a為本發明的一個實施方案，其中放射致敏劑組分與放射性組分鍵合而形成一種致敏劑-放射性共軛藥劑。

圖3b為本發明的一個實施方案，其中共軛的放射致敏劑與靶向組分結合而形成致敏劑共軛物；和共軛放射性組分與靶向組分結合形成放射共軛藥劑，

圖3c為本發明的一個實施方案，表示給藥載體中的放射致敏劑組分與放射性組分。

優選實施方案的詳細描述