[發(fā)明專利]砂型的造型裝置和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 00802551.7
• 申請日: 2000-11-02
• 公開（公告）號(hào): CN1335795A
• 公開（公告）日: 2002-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金藤公一;平田實(shí);波多野豐
• 申請（專利權(quán)）人: 新東工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B22C15/02
• 分類號(hào): B22C15/02
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 何騰云

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種砂型的造型裝置和方法，特別是涉及一種在1個(gè)臺(tái)上將型砂充填到造型空間并壓縮以對砂型進(jìn)行造型的裝置和方法。

背景技術(shù)

在現(xiàn)有的砂型造型過程中，由以帶砂箱的狀態(tài)進(jìn)行造型和澆注的鑄型造型設(shè)備，在空間上分離的不同臺(tái)上將型砂充填到砂箱和對該充填的型砂進(jìn)行壓縮(例如JP3-35842，A)。在該造型設(shè)備中，由于可同時(shí)進(jìn)行型砂對砂箱的充填和對充填到另一砂箱的型砂的壓縮，所以，砂型的生產(chǎn)效率變高。然而，在該造型設(shè)備中，需要充填臺(tái)和壓縮臺(tái)，并需要在兩臺(tái)間移動(dòng)砂箱的時(shí)間和能量。另外，需要設(shè)置多個(gè)輸送裝置，存在造型裝置復(fù)雜而且昂貴的問題。

另外，在現(xiàn)有砂型造型中由單一的臺(tái)進(jìn)行型砂的充填和壓縮時(shí)，為了進(jìn)行壓縮，需要將壓頭水平移動(dòng)到造型空間，同樣，需要設(shè)置輸送裝置，存在造型裝置復(fù)雜而且昂貴的問題。

本發(fā)明為了解決上述問題，提供一種造型方法和造型裝置，該造型方法和造型裝置可減少砂箱的移動(dòng)，縮短造型時(shí)間循環(huán)，并可減少消耗能量。

發(fā)明概述

在本發(fā)明的造型裝置的第1形式中，裝有型砂的砂斗的下部設(shè)置有多個(gè)射砂頭，在這些射砂頭的橫向鄰接的位置于砂斗下部設(shè)置可進(jìn)行壓力控制的多個(gè)壓實(shí)觸頭。砂斗由支承裝置可自由升降地支承。由帶模型的模板、砂箱、余砂框、及具有配置于余砂框上部的多個(gè)壓實(shí)觸頭的砂斗形成造型空間，從砂斗的射砂頭排出型砂，在造型空間中充填型砂，使砂斗朝造型空間下降，由壓實(shí)觸頭壓縮造型空間內(nèi)的型砂。通過這樣構(gòu)成造型裝置，可在1個(gè)臺(tái)(充填壓縮臺(tái))將型砂充填到造型空間并對該型砂進(jìn)行壓縮，達(dá)到本發(fā)明的目的。

在上述形式的1個(gè)例中，支承裝置保持著砂箱升降。

在上述形式的1個(gè)例中，支承裝置和砂斗中的任何1個(gè)相對砂斗可自由升降地保持余砂框。

通過如這些例子那樣構(gòu)成造型裝置，可容易地形成造型空間，另外，可使砂箱位于通過造型裝置的充填壓縮臺(tái)的造型流水線(多個(gè)砂箱的輸送通道)的高度。

本發(fā)明的其它形式和優(yōu)點(diǎn)可通過參照附圖和以下實(shí)施形式的說明加以理解。

的簡單說明

圖1a為示出本發(fā)明的實(shí)施形式的造型裝置和輸送與該裝置相關(guān)的鑄型的造型流水線的示意側(cè)面圖，圖1b為圖1a的造型裝置的示意正面圖。

圖2為本發(fā)明第1實(shí)施形式的造型裝置的正面圖。

圖3為圖2的造型裝置的砂斗的底面圖。

圖4為圖2的造型裝置的壓實(shí)觸頭的示意斷面圖。

圖5為示出圖2的造型裝置的砂斗和松砂裝置的圖。

圖6為示出在圖2的造型裝置中形成造型空間的狀態(tài)的圖。

圖7為示出在圖6的造型空間中充填型砂的狀態(tài)的圖。

圖8為示出壓縮圖7的造型空間內(nèi)的型砂的狀態(tài)的圖。

圖9為示出從圖8所示狀態(tài)使帶砂箱的鑄型離開模板并位于造型流水線上的狀態(tài)的圖。

圖10為本發(fā)明第2實(shí)施形式的造型裝置的正面圖。

圖11為示出在圖10的造型裝置中形成造型空間的狀態(tài)的圖。

圖12為示出在圖11的造型空間中充填型砂的狀態(tài)的圖。

圖13為示出對圖12的造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行1次壓縮的狀態(tài)的圖。

圖14為示出從圖13所示狀態(tài)對型砂進(jìn)一步進(jìn)行2次壓縮的狀態(tài)的圖。

圖15為圖14的造型裝置，示出使帶砂箱的鑄型離開模板并位于造型流水線上的狀態(tài)的圖。

圖16為示出在圖15所示充填壓縮臺(tái)送入新的空的砂箱并由輸送裝置將新的模板配置到充填壓縮臺(tái)的狀態(tài)的圖。

圖17為本發(fā)明第3實(shí)施形式的造型裝置的正面圖。

圖18為示出圖17的砂斗的射砂頭和壓實(shí)觸頭的斷面圖。

圖19為圖18的XV-XV線的朝上觀看的斷面圖，示出射砂頭和壓實(shí)觸頭的排列的圖。

圖20為示出在圖17的造型裝置中形成造型空間的狀態(tài)的圖。

圖21為示出在圖20的造型空間中充填型砂的狀態(tài)的圖。

圖22為示出將加壓空氣導(dǎo)入到圖21所示造型空間內(nèi)對型砂進(jìn)行預(yù)備壓縮的狀態(tài)的圖。

圖23為由充填壓縮裝置從圖22所示狀態(tài)對造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)一步進(jìn)行壓縮的狀態(tài)的圖。

實(shí)施發(fā)的最佳形式

下面，參照圖1說明本發(fā)明的造型裝置的大體構(gòu)成，參照圖2-圖9說明造型裝置的第1實(shí)施形式，參照圖10-圖16說明第2實(shí)施形式，參照圖17-圖23說明第3實(shí)施形式，在本說明書和附圖中對相同的部分使用相同參照編號(hào)。