[發(fā)明專利]冷卻輥、磁鐵材料的制造方法、薄帶狀磁鐵材料、磁鐵粉末及粘結(jié)磁鐵

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00802530.4
• 申請(qǐng)日: 2000-11-06
• 公開（公告）號(hào): CN1335796A
• 公開（公告）日: 2002-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 新井圣;加藤洋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精工愛普生株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B22D11/06
• 分類號(hào): B22D11/06;H01F1/06
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 魏金璽,楊麗琴

1.一種冷卻輥，該冷卻輥是磁鐵材料制造用的冷卻輥，其特征在于，在上述冷卻輥的輥基材的外周的全圓周面上設(shè)有表面層，將上述表面層的最大厚度設(shè)定為T_max，最小厚度設(shè)定為T_min時(shí)，則滿足1.01≤T_max/T_min≤3的關(guān)系。

2.一種冷卻輥，該冷卻輥是磁鐵材料制造用的冷卻輥，其特征在于，它具有輥基材和設(shè)置在其外周的全圓周面上的表面層，與上述輥基材的上述表面層的接合面的表面粗糙度Ra是0.03～8μm。

3.權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥，其中，上述表面層，是以不對(duì)其表面進(jìn)行機(jī)械加工的方式制造的。

4.權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥，其中，上述表面層，是采用化學(xué)蒸鍍法(CVD)或物理蒸鍍法(PVD)形成的。

5.權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥，其中，上述表面層，是由陶瓷構(gòu)成的。

6.權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥，其中，上述表面層的平均厚度是0.5～50μm。

7.權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥，其中，上述表面層的表面粗糙度Ra是0.03～8μm。

8.權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥，其中，上述冷卻輥的半徑是50～1000mm。

9.權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥，其中，上述磁鐵材料是含有稀土類元素、過(guò)渡金屬和硼的合金。

10.一種磁鐵材料的制造方法，其特征在于，使用權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥由急冷法制造薄帶狀磁鐵材料。

11.一種磁鐵材料的制造方法，其特征在于，在保護(hù)氣體中，將磁鐵材料的合金熔液從噴嘴射出，碰撞到對(duì)著上述噴嘴旋轉(zhuǎn)著的權(quán)利要求1或2所述的冷卻輥的圓周面上，并進(jìn)行冷卻固化，制造薄帶狀磁鐵材料。

12.權(quán)利要求11所述的磁鐵材料的制造方法，其中，上述保護(hù)氛圍氣氛氣體是惰性氣體。

13.權(quán)利要求10至12中的任一項(xiàng)所述的磁鐵材料的制造方法，其中，上述冷卻輥的圓周速度是5～60m/秒。

14.權(quán)利要求10至12中的任一項(xiàng)所述的磁鐵材料的制造方法，其中，制得的薄帶狀磁鐵材料的平均厚度是10～50μm。

15.權(quán)利要求10至12中的任一項(xiàng)所述的磁鐵材料的制造方法，其中，制得的薄帶狀磁鐵材料是具有軟磁性相和硬磁性相毗鄰存在著的復(fù)合組織的磁鐵材料。

16.一種薄帶狀磁鐵材料，其特征在于，它是采用權(quán)利要求10至12中的任一項(xiàng)所述的方法制造的。

17.一種磁鐵粉末，其特征在于，它是將采用權(quán)利要求10至12中的任一項(xiàng)所述的方法制造的薄帶狀磁鐵材料粉碎得到的。

18.權(quán)利要求17所述的磁鐵粉末，其中，磁鐵粉末，在其制造過(guò)程中、或制造后至少施以一次熱處理。

19.權(quán)利要求16或17所述的磁鐵粉末，其特征在于，它具有平均結(jié)晶粒徑為500nm以下的單相組織或復(fù)合組織。

20.權(quán)利要求16或17所述的磁鐵粉末，其特征在于，其平均粒徑是0.5～150μm。

21.一種粘結(jié)磁鐵，其特征在于，它是用粘合材料將權(quán)利要求16或17所述的磁鐵粉末粘合起來(lái)構(gòu)成的。

22.權(quán)利要求21所述的粘結(jié)磁鐵，其中，上述磁鐵粉末的含量是75～99.5％。

23.權(quán)利要求21或22所述的粘結(jié)磁鐵，其中，矯頑力HcJ是320～900kA/m以上。

24.權(quán)利要求21或22所述的粘結(jié)磁鐵，其中，最大磁能積(BH)max是60kJ/m³以上。