[發明專利]提高光敏防曬劑對UV線的穩定性的方法無效
| 申請號: | 00802082.5 | 申請日: | 2000-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN1327379A | 公開(公告)日: | 2001-12-19 |
| 發明(設計)人: | 桑德蘭·喬多奧斯基;弗朗西斯·格扎維?!た?/a>;克萊芒·桑切斯 | 申請(專利權)人: | 歐萊雅 |
| 主分類號: | A61K7/42 | 分類號: | A61K7/42 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 胡交宇 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 提高 光敏 防曬 uv 穩定性 方法 | ||
1.提高光敏防曬劑對UV輻射的穩定性的方法,其特征在于包括將所述防曬劑混合在光穩定化材料中,所述光穩定化材料是由至少一種硅烷氧化物和至少一種表面活性劑通過溶膠-凝膠途徑制得。
2.按照權利要求1的方法,其特征在于所述通過溶膠-凝膠途徑制備的光穩定化材料含有至少一種硅烷氧化物、至少一種表面活性劑、至少一種溶劑和水。
3.按照權利要求1或2的方法,其特征在于所述硅烷氧化物選自相應于下式的那些:
????????????????????Si(OR1)4??????????????????(I)
????????????????????R-Si(OR1)3????????????????(II)
????????????????????(R1O)3-Si-R>>-Si(OR1)3????(III)其中:
R1表示直鏈或支鏈C1-30,優選C1-6烷基,
R和R’彼此獨立地表示取代或未取代的直鏈或支鏈烷基,環烷基或芳基,所述R和R’可以另外含有化妝或皮膚上的活性基團;
R>>表示取代或未取代的直鏈或支鏈亞烷基、亞環烷基或亞芳基,所述R>>可以另外含有化妝或皮膚上的活性基團。
4.按照上述權利要求任一項的方法,其特征在于所述硅烷氧化物選自四乙氧基硅烷和甲基三乙氧基硅烷。
5.按照上述權利要求任一項的方法,其特征在于所述表面活性劑是非離子表面活性劑。
6.按照權利要求5的方法,其特征在于所述非離子表面活性劑選自:脂肪鏈帶有含6-32個碳原子聚乙氧基化、聚丙氧基化或聚甘油基化脂肪醇、烷基酚類化合物或酸類化合物,環氧乙烷或環氧丙烷的數目為2至100和甘油基的數目為2至30;環氧乙烷和環氧丙烷的共聚物;環氧乙烷和環氧丙烷與脂肪醇的縮合物;聚乙氧基化脂肪酰胺類化合物;聚甘油基化脂肪酰胺類化合物;聚乙氧基化脂肪胺類化合物;乙氧基化山梨糖醇脂肪酸酯類化合物;蔗糖或聚乙二醇脂肪酸酯類化合物;烷基聚葡糖苷類化合物;N-烷基葡糖胺的酰胺或氨基甲酸酯類衍生物;二糖醛酰胺類化合物或胺類化合物。
7.按照上述權利要求任一項的方法,其特征在于所述表面活性劑是聚乙氧基化4-(1,1,,3,3-四甲基丁基)酚。
8.按照上述權利要求任一項的方法,其特征在于所述表面活性劑的含量以該硅烷氧化物計為0.01%-99%(重量)和優選10%-60%(重量)。
9.按照上述權利要求任一項的方法,其特征在于所述光敏防曬劑選自二苯甲?;淄轭愌苌锖腿夤鹚犷愌苌?。
10.按照上述權利要求任一項的方法,其特征在于光敏防曬劑選自:
????-2-甲基二苯甲?;淄?,
????-4-甲基二苯甲?;淄?,
????-4-異丙基二苯甲?;淄?,
????-4-叔丁基二苯甲?;淄?,
????-2,4-二甲基二苯甲?;淄?,
????-2,5-二甲基二苯甲酰基甲烷,
????-4,4’-二異丙基二苯甲?;淄椋?/p>
????-4,4’—二甲氧基二苯甲酰基甲烷,
????-4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲?;淄?,
????-2-甲基-5-異丙基-4’-甲氧基二苯甲酰基甲烷,
????-2-甲基-5-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲?;淄?,
????-2,4-二甲基-4’-甲氧基二苯甲?;淄?,
????-2,6-二甲基-4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲?;淄椤?/p>
11.按照上述權利要求任一項的方法,其特征在于所述光敏防曬劑是4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲酰基甲烷。
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