[發明專利]制備鈦絡合物的方法無效
| 申請號: | 00801534.1 | 申請日: | 2000-01-31 |
| 公開(公告)號: | CN1345325A | 公開(公告)日: | 2002-04-17 |
| 發明(設計)人: | L·雷斯科尼 | 申請(專利權)人: | 巴塞爾技術有限公司 |
| 主分類號: | C07F17/00 | 分類號: | C07F17/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 楊麗琴 |
| 地址: | 荷蘭胡*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 絡合物 方法 | ||
1.制備式(I)的鈦絡合物的方法,
(D)(ZR1m)n(A)TiLpXq????(I)
其中:
(ZR1m)n為橋連D和A的二價基團,Z為C、Si、Ge、N、P和B;R1基團,各自相同或不同,選自氫、直鏈或支鏈、飽和或不飽和的C1-C20烷基、C3-C20環烷基、C6-C20芳基、C7-C20烷芳基和C7-C20芳烷基;或兩個R1可以一起形成一個環;m為1或2;n為1-3的整數;D為離域的π鍵部分,其以η5鍵合方式與Ti相連;A為選自-O-、-S-、-N(R2)-和-P(R2)-的兩價陰離子基團,其中R2為氫、直鏈或支鏈、飽和或不飽和的C1-C20烷基、C3-C20環烷基、C6-C20芳基、C7-C20烷芳基或C7-C20芳烷基,任選含有-OR’、-SR’、-NR’2或-PR’2基團,其中R’為C1-C10烷基基團;
Ti為鈦;
取代基L,各自相同或不同,為選自以下的單陰離子σ配體:直鏈或支鏈、飽和或不飽和的C1-C20烷基、C3-C20環烷基、C6-C20芳基、C7-C20烷芳基和C7-C20芳烷基,任選含有一個或多個Si或Ge原子;
X為鹵素或-OR’,其中R’為C1-C10烷基基團;
p為1或2;q為0或1,并且p+q=2
所述方法的特征在于包括以下步驟:
(1)使式(H-D)(ZR1m)n(A-H)配體與約(2+p)摩爾當量的式LjB或LMgX化合物反應,其中D、A、Z、R1、m、n、p、X和L具有上述含義;B為堿金屬或堿土金屬;j為1或2;當B為堿金屬時j等于1,當B為堿土金屬時j等于2;和
(2)使步驟(1)獲得的產物與約1摩爾當量的式TiX4化合物反應,其中X具有上述含義。
2.根據權利要求1的方法,其中(ZR1m)n選自CR12、(CR12)2、(CR12)3、CR1=CR1、SiR12、(SiR12)2、CR12-SiR12、GeR12、NR1、PR1和BR1,R1具有權利要求1中所述的含義。
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