[發(fā)明專利]濺射靶

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00801420.5
• 申請(qǐng)日: 2000-05-01
• 公開（公告）號(hào): CN1318112A
• 公開（公告）日: 2001-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 熊原吉一;石塚慶一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日礦材料
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 魏金璽,鐘守期

1．一種濺射靶，其特征是，靶的表面或兩個(gè)面的磨削方向或磨削的切線方向的一部分與焊到墊板后的靶的翹曲方向平行或處在與翹曲方向成±45°角度的范圍內(nèi)。

2．一種濺射靶，其特征是，該靶是矩形的，靶的表面或兩個(gè)面的磨削方向或磨削的切線方向的一部分處于焊到墊板后的靶的翹曲方向和對(duì)角線的夾角范圍內(nèi)。

3．一種濺射靶，其特征是，該靶是矩形的，靶的表面或兩個(gè)面的磨削方向或磨削切線方向的一部分處于板的長(zhǎng)度方向和對(duì)角線的夾角范圍內(nèi)。

4．根據(jù)權(quán)利要求1～3中各自記載的濺射靶，其特征是，磨削后的最終表面是經(jīng)過精密的磨削或研磨，或者酸洗，或熱處理等的改性表面。

5．根據(jù)權(quán)利要求1～4中各自記載的濺射靶，其特征是，表面光潔度Ra是5μm以下。

6．根據(jù)權(quán)利要求1～5中各自記載的濺射靶，其特征是，表面光潔度Ra是2μm以下。

7．根據(jù)權(quán)利要求1～6中各自記載的濺射靶，其特征是，該靶是陶瓷靶。