[發明專利]雙重CMP墊調節器無效
| 申請號： | 00800898.1 | 申請日： | 2000-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN1362907A | 公開（公告）日： | 2002-08-07 |
| 發明（設計）人： | A·H·劉;L·瓦因斯 | 申請（專利權）人： | 皇家菲利浦電子有限公司 |
| 主分類號： | B24B53/00 | 分類號： | B24B53/00;B24B21/18;B24B37/04 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周備麟,楊松齡 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雙重 cmp 調節器 | ||
1.一種CMP拋光裝置，它具有至少兩個調節臂和一拋光墊，該CMP拋光裝置包括：
一第一拋光墊調節器，將其構形并配置成能分配砂漿和對該拋光墊進行調節，
一第二拋光墊調節器，將其構形并配置成能清潔和調節一部分拋光墊和分配清潔用材料。
2.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：使用該第一調節器來代替材料分配桿，這些材料包括砂漿和清潔用材料
3.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：該拋光墊調節器包括一噴頭，它適于通過該頭上的噴孔來噴灑上述材料。
4.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：至少有一個拋光墊調節器含有轉動裝置。
5.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：至少有一個拋光墊調節器含有清潔裝置。
6.按照權利要求5所述的CMP拋光裝置，其特征在于：該清潔裝置含有至少一個刷子。
7.按照權利要求5所述的CMP拋光裝置，其特征在于：該清潔裝置含有至少一個蓖子調節器。
8.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：至少有一個調節臂包含有用來供應液體或氣體試劑的裝置。
9.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：至少有一個調節臂包含有用來供應至少兩種不同液體或氣體試劑的裝置。
10.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：該拋光墊包括一拋光帶。
11.按照權利要求1所述的CMP拋光裝置，其特征在于：該拋光墊包括一拋光盤。
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