[實用新型]拍攝微小粒子儀的傅立葉全息記錄光學設備

無效

• 申請號: 00268760.7
• 申請日: 2000-12-31
• 公開（公告）號: CN2456156Y
• 公開（公告）日: 2001-10-24
• 發明（設計）人: 王國志;王淑巖;豐善
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01N15/02
• 分類號: G01N15/02;G03H1/16
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司
• 代理人: 劉國智

本實用新型屬于光學元件、系統或儀器技術領域，具體涉及到雙焦透鏡的簡單或復合透鏡。

在測量微小粒子的大小及其分布時，目前國際國內采用無接觸全場測量的激光全息法，這種測量用的設備有兩種全息記錄光學設備，一種是采用顯微放大技術的光學設備，這種光學設備的主要缺點是視場小，對物場中的粒子放大倍數隨著物距而變化，不宜用計算機進行全場測試。此外，有人采用了傅立葉光學設備，但視場小，而且分辨率也小，由于存在這些缺點，故未在測量微粒子的光學儀器中使用。

本實用新型的目的在于克服上述光學設備的缺點，提供一種視場大、分辨率高、便于三維層析測量、便于計算機對采集的微小粒子進行數據處理的拍攝微小粒子儀的傅立葉全息光學設備。

為達到上述目的，本實用新型采用的解決方案是：在底座的左側設安裝有左鏡組的左鏡架、右側在左鏡組的右焦點設安裝有右鏡組的右鏡架。上述的左鏡組包括：設置在左鏡架中間的左組雙凹透鏡以及左組雙凹透鏡同一條光軸左側的左組左雙凸透鏡、和右側的左組右雙凸透鏡，其中左組雙凹透鏡左凹面的曲率半徑為198.57mm～198.65mm，右凹面的曲率半徑為198.57mm～198.67mm，左組左雙凸透鏡和左組右雙凸透鏡面向左組雙凹透鏡一面的曲率半徑為682.26mm～682.36mm、反面的曲率半徑為181.75mm～181.83mm，在左組雙凹透鏡和左組左雙凸透鏡以及左組右雙凸透鏡的兩面涂或鍍有增透膜。上述的右鏡組包括：設置在右鏡架中的右組雙凹透鏡、以及右組雙凹透鏡同一條光軸左側的右組左雙凸透鏡和右側的右組右雙凸透鏡，其中右組雙凹透鏡左凹面的曲率半徑為198.57mm～198.65mm，右凹面的曲率半徑為198.57mm～198.67mm，右組左雙凸透鏡和右組右雙凸透鏡面向右組雙凹透鏡一面的曲率半徑為682.26mm～682.36mm、反面的曲率半徑為181.75mm～181.83mm，在右組雙凹透鏡和右組左雙凸透鏡以及右組右雙凸透鏡的兩面涂或鍍有增透膜。

本實用新型的左組雙凹透鏡的左凹面曲率半徑和右凹面的曲率半徑分別與右組雙凹透鏡的左凹面曲率半徑和右凹面的曲率半徑相同，左組左雙凸透鏡和左組右雙凸透鏡面向左組雙凹透鏡與右組左雙凸透鏡和右組右雙凸透鏡面向右組雙凹透鏡一面的曲率半徑相同，左組左雙凸透鏡反面的曲率半徑與左組右雙凸透鏡反面的曲率半徑、與右組左雙凸透鏡反面的曲率半徑、與右組右雙凸透鏡反面的曲率半徑相同。

本實用新型的左組雙凹透鏡、左組左雙凸透鏡、左組右雙凸透鏡、右組雙凹透鏡、右組左雙凸透鏡、右組右雙凸透鏡的外表面涂或鍍的增透膜為氟化鎂或二氧化硅涂或鍍層，涂或鍍1～3層。

本實用新型與全息記錄光學設備、顯微放大技術的光學設備以及傅立葉設備相比，它具有視場大、分辨率高、便于三維層析測量、便于計算機對采集的微小粒子進行數據處理等優點，可在拍攝微小粒子光學設備中推廣使用。

圖1是本實用新型一個實施例的結構示意圖。

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步詳細說明，但本實用新型不限于這些實施例。