[實(shí)用新型]應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00254881.X
• 申請(qǐng)日: 2000-09-29
• 公開（公告）號(hào): CN2444279Y
• 公開（公告）日: 2001-08-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔡振財(cái);陳國(guó)豐;曹建明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻友科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G06K9/20
• 分類號(hào): G06K9/20
• 代理公司: 柳沈知識(shí)產(chǎn)權(quán)律師事務(wù)所
• 代理人: 魏曉剛

1．一種應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于至少包括：一定位框架，其可置于一平臺(tái)式掃描儀的一掃描平臺(tái)上方；一定位框，設(shè)于所述定位框架內(nèi)，所述定位框至少包括：一凹槽，其面積大于一透射稿面積，用于容納所述透射稿于其中；所述凹槽更進(jìn)一步至少包括一第一開口，其面積小于一透射稿面積；及一上蓋，所述上蓋的第一側(cè)邊與所述凹槽的第一側(cè)邊成線接觸，可使所述上蓋能開合于所述凹槽中；所述上蓋更進(jìn)一步包括一第二開口，其面積小于一透射稿面積。

2．如權(quán)利要求1所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在手所述的定位框架，其面積與所述平臺(tái)式掃描儀的所述掃描平臺(tái)的面積相等。

3．如權(quán)利要求1所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于所述的定位框至少包括：

一卡鎖裝置，設(shè)于所述凹槽的第二側(cè)邊與所述上蓋的第二側(cè)邊處，所述上蓋的第二側(cè)邊與所述上蓋的第一側(cè)邊互為相對(duì)邊，所述凹槽的第二側(cè)邊與所述凹槽的第一側(cè)邊亦互為相對(duì)邊，所述卡鎖裝置當(dāng)所述上蓋閉合于所述凹槽時(shí)，將所述上蓋固定于所述凹槽中。

4．如權(quán)利要求3所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于所述的卡鎖裝置至少包括：

一卡勾，設(shè)于所述上蓋的第二側(cè)邊，所述上蓋的第二側(cè)邊與所述上蓋的第一側(cè)邊互為相對(duì)邊，且所述卡勾延伸方向與所述上蓋平面相互垂直；

一卡勾槽，設(shè)于所述凹槽的第二側(cè)邊，且當(dāng)所述上蓋閉合于所述凹槽中時(shí)，所述卡勾槽位置相等于所述卡勾位置，且能使所述卡勾固定于所述卡勾槽中。

5．如權(quán)利要求1所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于所述的卡鎖裝置至少包括：

一緩沖縫，設(shè)于所述上蓋的第二側(cè)邊處，用于提供所述卡勾具有一平行于所述上蓋平面的彈力。

6．如權(quán)利要求1所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于所述的上蓋，其面積小于所述凹槽面積，其厚度小于所述凹槽深度，使所述上蓋閉合于所述凹槽中時(shí)，所述上蓋的表面與所述定位框架的表面平齊。

7．如權(quán)利要求1所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于所述的第一開口與第二開口的面積相等；且當(dāng)所述上蓋閉合于所述凹槽中時(shí)，所述第一開口的位置相等于所述第二開口的位置。

8．如權(quán)利要求1所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于所述的凹槽至少包括：

一開啟槽，設(shè)于所述凹槽的第二側(cè)邊，所述凹槽的第二側(cè)邊與所述凹槽的第一側(cè)邊互為相對(duì)邊，用于讓使用者方便將上蓋開啟。

9．如權(quán)利要求1所述的一應(yīng)用于平臺(tái)式掃描儀的透射稿定位裝置，其特征在于所述的定位框架與定位框，可為一體成型制成的一注射成型件。