[實用新型]脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置無效
| 申請號: | 00229201.7 | 申請日: | 2000-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN2415041Y | 公開(公告)日: | 2001-01-17 |
| 發明(設計)人: | 王又青 | 申請(專利權)人: | 華中理工大學 |
| 主分類號: | C23C16/48 | 分類號: | C23C16/48 |
| 代理公司: | 華中理工大學專利事務所 | 代理人: | 方放 |
| 地址: | 430074 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 脈沖 激光 沉積 大面積 薄膜 裝置 | ||
1、一種脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,由電機(1)、主轉動塊(2)、軸承(11)、吊桿(12)、透鏡(13)、激光束(14)、靶材(16)和基片(17)組成,其特征在于:電機軸(3)楔入主轉動塊(2)上的孔內,電機軸(3)帶動主轉動塊(2)旋轉,該裝置還有一個輔轉動塊(7),輔轉動塊(7)隨主轉動塊(2)旋轉的同時進行自轉,在輔轉動塊(7)上開有偏心孔,該孔中安裝有軸承(11),吊桿(12)的吊桿軸(10)夾持在軸承(11)中,透鏡(13)掛在吊桿(12)的底部,電機通過主轉動塊(2)和輔轉動塊(7)帶動透鏡在一個平面內作類似于月亮繞太陽運行軌跡的運行,激光束通過透鏡(13)和真空鍍膜室(18)的入光窗口射入真空鍍膜室(18)室內,并聚焦在預置于真空鍍膜室(18)內的靶材(16)上,位于真空鍍膜室(18)內的基片(17)與靶材(16)平行放置。
2、根據權利要求1所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:在距主轉動塊(2)的上述孔與與塊的邊緣之間的位置上開有另一孔,該孔中安裝有軸承(6),固定于輔轉動塊(7)上的輔轉動塊軸(8)穿過軸承(6),電機(1)上有一固定盤(23)固定于電機軸(3)的同側,且與電機軸(3)同心,輔轉動塊軸(8)通過傳送帶(5)與固定盤(23)聯接起來。
3、根據權利要求2所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:所述主轉動塊(2)為盤狀。
4、根據權利要求2或3所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:所述輔轉動塊(7)為盤狀。
5、根據權利要求2所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:所述主轉動塊(2)為長方體。
6、根據權利要求2或5所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:所述輔轉動塊(7)為長方體。
7、根據權利要求2所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:所述主轉動塊(2)為扇形。
8、根據權利要求2或7所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:所述輔轉動塊(2)為扇形。
9、根據權利要求1所述的脈沖激光沉積大面積薄膜的裝置,其特征在于:所述主轉動塊(2)為齒輪狀,該裝置有一個開有中心孔的底盤(19),電機軸(3)穿過底盤(19)的中心孔楔入主轉動塊(2)的中心孔,在底盤上安裝有一個檔板環(22),輔轉動塊(7)的形狀為兩個齒輪疊加,構成“T”型,輔轉動塊(7)內、外齒輪分別與主轉動塊(2)和底盤(19)構成齒輪咬合連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





