[實用新型]紀念磚無效
| 申請號: | 00207726.4 | 申請日: | 2000-04-04 |
| 公開(公告)號: | CN2422366Y | 公開(公告)日: | 2001-03-07 |
| 發明(設計)人: | 張建軍 | 申請(專利權)人: | 張建軍 |
| 主分類號: | E04C1/39 | 分類號: | E04C1/39 |
| 代理公司: | 河南省南陽市專利服務中心 | 代理人: | 時劍峰 |
| 地址: | 473000 *** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紀念 | ||
本實用新型屬于建筑技術領域,是一種紀念磚。
目前,在各國的重點文物、名勝古跡、旅游勝地,都有的少紀念留言墻、塔、坪及各種紀念性建筑和人文景觀,這些景觀要求是長期保存,但由于其采用的磚型不好,容易受震動、風化、水淋的影響而脫落倒塌和龜裂,造成既不能永久保存,又要大量維修。
本實用新型的目的是提供一種專用于紀念性建筑建設和修護的紀念磚,該磚應具有護震動風化水淋,利于永久保存的優點。
本實用新型所采取的技術方案是在現有磚的基礎上加以改進,在磚的內側大面預制有凹槽,外側大面刻設或預制紀念圖文。內側大面的凹槽為貫通的梯形槽。
由于本實用新型采取了上述技術方案,與現有的磚相比,具有專用于紀念性建筑和修護,抗震動風化水淋,利于永久保存的優點。
下面結合附圖及實例對本實用新型的具體結構特征作進一步說明。
圖1表示本實用新型的總裝結構示意圖。
圖2表示本實用新型的端視結構示意圖。
如圖1、圖2所示,本實用新型具有磚體,磚體具有大面1、側面2和端面3,它的主要特點是在內側大面上預制有凹槽4,凹槽4可以為貫通的梯形槽,在外側大面上刻設或預制有紀念圖文5。該磚可以采用天然大理石、花崗巖、金屬等材料,也可以采用陶瓷燒結。它可以通過專用基材進行切割-粗磨-銑槽-精研-紀念圖文雕刻-拋光生產工藝最后加工成形狀各異的念仿工藝磚。
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