[發(fā)明專利]無清除劑照相鹵化銀影印介質(zhì)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 00137514.8
• 申請日: 2000-12-27
• 公開（公告）號: CN1301983A
• 公開（公告）日: 2001-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·R·羅伯茨;G·J·麥斯維尼;A·D·坎普
• 申請（專利權(quán)）人: 伊斯曼柯達(dá)公司
• 主分類號: G03C1/46
• 分類號: G03C1/46;G03C1/035;G03C7/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉元金,王其灝

1．一種多層照相元件包含：一個反射性的支持體；其中，與支持體相鄰的彩色記錄層1包含至少一個光敏層和一個非光敏染料形成中間層；在上述彩色記錄層1上的彩色記錄層2包含至少一個光敏層和至少兩個非光敏染料形成中間層；在上述彩色記錄層2上的彩色記錄層3包含至少一個光敏層和一個非光敏染料形成中間層；一個任選的含UV染料層的中間層和一個保護(hù)層；每個中間層均完全地或基本上不含清除劑，其包含含氯化銀超過90％的鹵化銀顆粒，其中所述鹵化銀顆粒的互易特征為：當(dāng)分別曝光1微秒和0.4秒時，在曝光量的對數(shù)為1.2或更小的范圍內(nèi)，相對于產(chǎn)生密度高于Dmin?0.04的曝光點(diǎn)，至少一個彩色記錄層顯影出至少2.0的密度。

2．權(quán)利要求1中照相元件，其中，在曝光量的對數(shù)為1.2或更小的范圍內(nèi)，相對于產(chǎn)生密度高于Dmin?0.04的曝光點(diǎn)，每一個彩色記錄層顯影出至少2.0的密度。

3．權(quán)利要求1或2中照相元件，其中銀沉淀小于0.70g/m²。

4．權(quán)利要求1到3中照相元件，其中明膠沉淀在4.3和7.5g/m²之間。

5．權(quán)利要求1到4中任一項(xiàng)的元件，在最大密度為2.2下，在亞微秒時間的曝光下進(jìn)行數(shù)字曝光，然后顯影，其基本上不會出現(xiàn)邊紋。

6．權(quán)利要求1到5中任一項(xiàng)的元件，其中，全彩色照相元件的鹵化銀顆粒包含至少90％的氯化銀，還包含含有三唑或取代三唑配位體的銥配位絡(luò)合物。

7．權(quán)利要求1到6中任一項(xiàng)的元件，還包含六配位金屬絡(luò)合物，滿足公式：

[ML₆]n

其中

n為0,-1,-2,-3或-4；

M是填滿最外層軌道的除了銥以外的多價金屬離子；和

L₆代表可獨(dú)立選擇的橋連配位體，條件是至少四個配位體是陰離子配位體，至少一個配位體是氰基配位體或比氰基電負(fù)性更大的配位體。

8．權(quán)利要求1到7中任一項(xiàng)的元件，支持材料包含紙基底和至少一個雙軸取向的層合到該基底上的聚烯烴片材。

9．權(quán)利要求1到8中任一項(xiàng)的元件，其中存在含有UV染料的中間層。