[發明專利]金屬表面處理劑、金屬材料的表面處理方法及表面處理金屬材料

有效

• 申請號: 00136171.6
• 申請日: 2000-12-27
• 公開（公告）號: CN1301883A
• 公開（公告）日: 2001-07-04
• 發明（設計）人: 迫良輔;上野圭一;本田匠
• 申請（專利權）人: 日本巴卡萊近估股份有限公司
• 主分類號: C23C22/00
• 分類號: C23C22/00;C09D5/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 汪惠民

1．一種金屬表面處理劑，其特征在于含有具有用一般式(Ⅰ)所表示的樹脂化合物(a)、至少一種的釩化合物(b)及由鋯、鈦、鉬、鎢、錳及鈰而成的群體選出的至少一種金屬的金屬化合物(c)，式中，R¹表示-CH₂-、-CH₂-NH-CH₂-或-CH=N-CH₂-，Y為氫原子或一般式(Ⅱ)(式中，R²、R³表示相互獨立的氫原子或碳數1～3的烷基)，

Z為具有由與甲醛加成縮合而得的芳香族化合物失去與已鍵合構成其芳香環的碳原子上的氫原子的1～4個的基-CH₂X(式中X與後述的W的定義中的X同義)，或者，以n括住的構造中的芳香環基不同的二價的基，或三聚氰胺、鳥糞胺或尿素的二個氨基失去一次一個氫原子的二價基，

各W分別為氫原子或基P，該基P為-CH₂X、-CH₂NHCH₂或-CH=NCH₂X[式中，X表示OH、OR⁴(R⁴表示碳數1～5的烷基或碳數1～5的羥烷基)、鹵原子、或以一般式(Ⅲ)或(Ⅳ)表示的基團(式中，R⁵、R⁶、R⁷、R⁸及R⁹表示相互獨立的氫原子，碳數1～10的烷基或碳數1～10的羥烷基，A-表示氫氧離子或酸離子)，

基P的取代比例為P的數目/(苯環的數目及基Z的數目之合)=0.2～4.0，

n表示0或1～29的整數，m表示0或1～10的整數。

2．如權利要求1所述的金屬表面處理劑，其中釩化合物(a)的至少一部分為釩的氧化數為三價或四價的釩化合物。

3．如權利要求1或2所述的金屬表面處理劑，其中以溶液或分散狀態還含有重量平均分子量1,000～1,000,000的有機高分子(d)。

4．權利要求1、2或3所述的金屬表面處理劑，其中還含有由羥基、羰基、羧基、磷酸基、膦酸基、1～3級氨基及酰胺基而成的群體選出的具有至少一種官能基的水溶性有機化合物(e)。

5．如權利要求1、2或3所述的金屬表面處理劑，其中還含有由氟化物及氟絡合物選出的至少一種氟化物(f)。

6．一種金屬材料的表面處理方法，其特征在于用權利要求1-5中任意一項所述的金屬表面處理劑處理金屬材料表面後，加熱干燥至前述材料的溫度成為50～250℃。

7．一種表面處理金屬材料，是具有采用權利要求6所述的表面處理方法所形成的被膜的金屬材料。