[發明專利]相位分布及相位校正方法和裝置以及磁共振成像方法和裝置無效
| 申請號: | 00131879.9 | 申請日: | 2000-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN1305113A | 公開(公告)日: | 2001-07-25 |
| 發明(設計)人: | 三好光晴 | 申請(專利權)人: | GE醫療系統環球技術有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/20 | 分類號: | G01R33/20;G01R33/48 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吳增勇,張志醒 |
| 地址: | 美國威*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 相位 分布 校正 方法 裝置 以及 磁共振 成像 | ||
1.一種相位分布測量方法,它包括如下步驟:
對通過磁共振成像得到的圖像進行低通濾波,
通過比較所述低通濾波前的圖像和所述通道濾波后的圖像的每一個對應像素的像素數據來檢測這樣的像素位置:對該像素位置而言,所述低通濾波后的值與所述低通濾波前的值的比值不超過預定的比值,
排除所述檢測到的像素位置的像素數據,根據所述低通濾波前的圖像或所述低通濾波后的圖像來計算相位分布,和
通過從鄰近像素位置的相位來估計所述計算的相位分布中所述被排除的像素位置的相位進行補償。
2.一種相位分布測量裝置,它包括:
濾波單元,它對通過磁共振成像得到的圖像進行低通濾波,
像素位置檢測單元,它通過比較所述低通濾波前的圖像和所述通道濾波后的圖像的每一個對應像素的像素數據來檢測這樣的像素位置:對該像素位置而言,所述低通濾波后的值與所述低通濾波前的值的比值不超過預定的比值,
相位分布計算單元,它排除所述被檢測到的像素位置的像素數據,根據所述低通濾波前的圖像或所述低通濾波后的圖像來計算相位分布,和
相位補償單元,它通過從鄰近像素位置的相位來估計所述計算的相位分布中所述被排除的像素位置的相位進行補償。
3.一種相位校正方法,它包括如下步驟:
對通過磁共振成像得到的圖像進行低通濾波,
通過比較所述低通濾波前的圖像和所述通道濾波后的圖像的每一個對應像素的像素數據來檢測這樣的像素位置:對該像素位置而言,所述低通濾波后的值與所述低通濾波前的值的比值不超過預定的比值,
排除所述被檢測到的像素位置的像素數據,根據所述低通濾波前的圖像或所述低通濾波后的圖像來計算相位分布,
通過從鄰近像素位置的相位來估計所述計算的相位分布中所述被排除的像素位置的相位進行補償,和
利用所述補償后的相位分布對所述圖像進行相位校正。
4.一種相位校正方法,它包括如下步驟:
對通過磁共振成像得到的圖像進行低通濾波,
根據所述低通濾波的圖像計算相位分布,
根據所述計算的相位分布對所述低通濾波前的圖像進行相位校正,
對所述相位校正后的圖像再次進行低通濾波,
根據所述新的低通濾波后的圖像來計算新的相位分布,和
根據所述新計算的相位分布對所述相位校正后的圖像進行新的相位校正。
5.權利要求4的相位校正方法,其特征在于循環地進行如下步驟:對所述相位校正后的圖像再次進行低通濾波;根據所述新的低通濾波后的圖像來計算新的相位分布;以及根據所述新計算的相位分布對所述相位校正后的圖像進行新的相位校正。
6.權利要求4的相位校正方法,其特征在于:每次重復時逐漸地減弱所述低通濾波的程度。
7.權利要求4的相位校正方法,其特征在于:每次重復時逐漸地加強所述低通濾波的程度。
8.一種相位校正裝置,它包括:
濾波單元,它對通過磁共振成像得到的圖像進行低通濾波,
像素位置檢測單元,它通過比較所述低通濾波前的圖像和所述通道濾波后的圖像的每一個對應像素的像素數據來檢測這樣的像素位置:對該像素位置而言,所述低通濾波后的值與所述低通濾波前的值的比值不超過預定的比值,
相位分布計算單元,它排除所述檢測到的像素位置的像素數據,根據所述低通濾波前的圖像或所述低通濾波后的圖像來計算相位分布,
相位補償單元,它通過從鄰近像素位置的相位來估計所述計算的相位分布中所述被排除的像素位置的相位進行補償,和
相位校正單元,它利用所述補償的相位分布對所述圖像進行相位校正。
9.一種相位校正裝置,它包括:
濾波單元,它對通過磁共振成像得到的圖像進行低通濾波,
相位分布計算單元,它根據所述低通濾波的圖像計算相位分布,
相位校正單元,它根據所述計算的相位分布對所述低通濾波前的圖像進行相位校正,和
控制單元,它通過所述濾波單元對所述相位校正后的圖像再次進行低通濾波,通過所述相位分布計算單元根據所述新的低通濾波后的圖像來計算新的相位分布,通過所述相位校正單元根據所述新計算的相位分布對所述相位校正后的圖像再次進行新的相位校正。
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