[發(fā)明專利]用于抗反射涂層的有機(jī)聚合物和其制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00131746.6
• 申請(qǐng)日: 2000-09-07
• 公開（公告）號(hào): CN1288902A
• 公開（公告）日: 2001-03-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭載昌;孔根圭;鄭旼鎬;洪圣恩;李根守;白基鎬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C08F20/00
• 分類號(hào): C08F20/00;G03F7/00
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 過(guò)曉東

1．一種如下化學(xué)通式11的表示的化合物：式11

其中：

a和b分別為摩爾數(shù)，其滿足條件：比例a∶b為0.1-1.0∶0.1-1.0；

R′為氫或甲基；

R₁和R₂為相同或不同的，各自表示含1-5個(gè)碳原子的取代或未取代的線性或支化烷基；和

R₃為氫或含1-5個(gè)碳原子的取代或未取代的線性或支化烷基。

2．如權(quán)利要求1所述的化合物，其中R′和R₃分別為氫原子，R₁和R₂為相同或不同的，各自表示甲基或乙基，得到下面化學(xué)通式2或3：

式2式3

3．如權(quán)利要求1的化合物，其中化合物具有分子量4，000-12，000。

4．一種制備通式11的化合物的方法，包括如下步驟：

將構(gòu)成化學(xué)通式11的化合物的單體溶于有機(jī)溶劑中；和

使所得溶液在聚合引發(fā)劑存在下在氮?dú)饣驓鍤鈿夥罩蟹磻?yīng)。

5．如權(quán)利要求4所述的方法，其中單體分別為下面化學(xué)通式1表示的化合物和化學(xué)通式2表示的化合物：

式1

式2

6．如權(quán)利要求4的方法，其中溶劑選自四氫呋喃、甲苯、苯、甲基乙基酮、二噁烷和其混合物。

7．如權(quán)利要求4的方法，其中聚合引發(fā)劑選自2，2-偶氮二異丁腈(AIBN)、過(guò)氧化苯甲酰、過(guò)氧化乙酰、過(guò)氧化月桂酰、叔丁基過(guò)氧化物和其混合物。

8．一種有機(jī)抗反射薄膜組合物，包括一種含化學(xué)通式11的化合物和如下化學(xué)通式12的化合物：

式12

其中：c為1；

R″為氫或甲基；

R₁為含1-5個(gè)碳原子的取代或未取代的線性或支化烷基。

9．如權(quán)利要求8的方法，其中R₄為乙基或丙基，得到如下化學(xué)通式5或6：式5式6

10．一種有機(jī)抗反射薄膜組合物，包括化學(xué)通式11的一種化合物、通式12的一種化合物、一種有機(jī)溶劑和一種熱酸生成劑。

11．如權(quán)利要求10的有機(jī)抗反射薄膜組合物，其中有機(jī)溶劑選自3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、2-庚酮、四氫呋喃和其混合物。

12．如權(quán)利要求10或11的有機(jī)抗反射薄膜組合物，其中，基于化學(xué)通式11或12的化合物重量，有機(jī)溶劑的用量?jī)?yōu)選為2，000至4，000wt％。

13．如權(quán)利要求10的有機(jī)抗反射薄膜組合物，其中熱酸生成劑為選自如下化學(xué)通式7至10的化合物和其混合物：

式7

式8

14．如權(quán)利要求10或13的有機(jī)抗反射組合物，其中，基于通式11和12的化合物的總量，熱酸生成劑的用量為0.1-10wt％。

15．一種用有機(jī)抗反射薄膜組合物形成有機(jī)反射薄膜圖形的方法，該方法包括如下步驟：

將有機(jī)抗反射薄膜組合物涂于要進(jìn)行刻蝕的層上；

烘烤該有機(jī)抗反射薄膜組合物涂布的層；

通過(guò)將光刻膠膜涂于有機(jī)抗反射薄膜上，將該光刻膠薄膜暴露于光源下并使曝光的光刻膠薄膜顯影；

將有機(jī)抗反射薄膜和要刻蝕的層順序刻蝕，其中光刻膠圖形起到刻蝕掩蔽的作用。

16．如權(quán)利要求15的方法，其中烘烤步驟在100-250℃下進(jìn)行1-5分鐘。

17．如權(quán)利要求15的方法，其中還包括在曝光步驟之前和/或之后的烘烤步驟。

18．如權(quán)利要求16的方法，其中烘烤步驟在70-200℃下進(jìn)行。

19．如權(quán)利要求15或17的方法，其中曝光步驟在選自包括ArF、KrF和ELV的遠(yuǎn)紫外光束，電子束、X-射線、離子束和其組合的光源下進(jìn)行。