[發(fā)明專利]修正光鄰近效應(yīng)的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00130042.3 | 申請日： | 2000-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN1294319A | 公開（公告）日： | 2001-05-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 東內(nèi)圭一郎 | 申請（專利權(quán)）人： | 日本電氣株式會社 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G03F7/00;H01L21/027;H01L21/768 |
| 代理公司： | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 穆德駿,方挺 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 修正 鄰近 效應(yīng) 方法 | ||
1．一種修正光刻工藝中光鄰近效應(yīng)的方法，該光刻工藝使用具有掩模互連圖形的掩模圖形形成互連圖形，所述方法包括步驟：在所述掩模互連圖形中提取拐角部分；給所述提取的各拐角部分的內(nèi)拐角上提供一個的默認的“L”形剪切塊修正圖形；計算相鄰兩個所述默認剪切塊修正圖形的引線相對端之間的第一距離，將第一距離與閾值距離進行比較，如果所述第一距離小于所述閾值距離，則修改所述默認剪切塊修正圖形，得到修改后的剪切塊修正圖形，以使所述修改后的剪切塊修正圖形的引線相對端之間的距離大體上等于所述閾值距離。
2．如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一距離計算步驟包括：判斷相鄰的兩個所述提取的拐角部分是否構(gòu)成“]”形圖形；計算所述“]”形圖形中的相鄰兩個所述默認剪切塊修正圖形的引線相對端之間的所述第一距離。
3．如權(quán)利要求1所述的方法，進一步包括如下步驟：判斷相應(yīng)于各所述提取拐角部分的互連部分是否直接和接觸孔連接，從而提取所述掩模圖形中的所選擇的拐角部分，并在所述選擇的拐角部分的外拐角上加上一個附加修正圖形。
4．如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述“]”形圖形在所述鄰近的拐角部分之間包括柵極圖形。
5．如權(quán)利要求2所述的方法，進一步包括如下步驟：判斷所述“]”形圖形是第一種類型還是第二種類型，并且所述第二種類型不執(zhí)行修改所述默認剪切塊修正圖形的所述步驟。
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