[發明專利]以反鐵磁耦合的鐵磁膜作為記錄層的磁性記錄介質

無效

• 申請號: 00129096.7
• 申請日: 2000-09-29
• 公開（公告）號: CN1291769A
• 公開（公告）日: 2001-04-18
• 發明（設計）人: 馬修·J·凱里;埃里克·E·富勒頓;布魯斯·A·格尼;哈爾·J·羅森;曼弗雷德·E·沙貝斯
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司
• 主分類號: G11B5/66
• 分類號: G11B5/66;G11B5/82
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 馮譜

1．一種磁記錄介質，包括：

一個基底；

位于基底上的磁性記錄層，包括一個第一鐵磁膜、位于第一鐵磁膜上的非鐵磁隔離膜和一個位于隔離物膜上的第二鐵磁膜，第二鐵磁膜經隔離膜反鐵磁交換耦合到第一鐵磁膜。

2．如權利要求1的介質，還包括一個處于第二鐵磁膜上的第二非鐵磁隔離膜和一個處于第二隔離膜上的第三鐵磁膜，第三鐵磁膜經第二隔離膜反鐵磁交換耦合到第一鐵磁膜。

3．如權利要求1的介質，其特征在于第一鐵磁膜的厚度為t1，磁化強度為M1，第二鐵磁膜的厚度為t2，磁化強度為M2，其中第一和第二鐵磁膜單位面積的磁矩(M1×t1)和(M2×t2)彼此不同。

4．如權利要求3的介質，其特征在于第一和第二鐵磁膜由同樣的材料構成，其中t1不同于t2。

5．如權利要求3的介質，其特征在于第一和第二鐵磁膜由不同的材料構成，其中t1基本上與t2相同。?

6．如權利要求1的介質，其特征在于隔離膜由選自釕(Ru)、鉻(Cr)、銠(Rh)、銥(lr)、銅(Cu)及其合金的材料構成。

7．如權利要求1的介質，其特征在于第一和第二鐵磁膜由選自Co，Fe，Ni及其合金的材料制成。

8．如權利要求1的介質，其特征在于第一鐵磁膜包括一個界面膜，該界面膜由位于第一鐵磁膜和隔離膜的界面處的鈷組成。

9．如權利要求1的介質，其特征在于第二鐵磁膜包括一個界面膜，該界面膜由位于第二鐵磁膜和隔離膜的界面處的鈷組成。

10．如權利要求1的介質，還包括一個位于基底和磁性記錄層之間的基底上的墊層。

11．如權利要求1的介質，還包括一個形成于磁性記錄層上的保護涂層。

12．一種磁性記錄盤，包括：

一個基底；

一個基底上的墊層；

一個位于墊層上的磁性記錄層，包括一個第一鈷合金鐵磁膜；形成在第一鐵磁膜上并與其接觸的、選自釕(Ru)、鉻(Cr)、銠(Rh)、銥(lr)、銅(Cu)及其合金的材料的非鐵磁隔離膜；和形成在隔離膜上并與其接觸的第二鈷合金鐵磁膜；隔離膜的厚度足以誘使第二鐵磁膜經隔離膜反鐵磁交換耦合到第一鐵磁膜；

以及一個保護涂層形成在磁性記錄層上。

13．如權利要求12的盤，其特征在于第一鐵磁膜是一個具有多個磁疇的粒狀膜，每個磁疇包含多個磁粒，其中第二鐵磁膜是一個具有多個磁疇的粒狀膜，每個磁疇保護多個磁粒，其中第二鐵磁膜中磁疇的磁矩通過隔離膜直接反平行反鐵磁耦合到第一鐵磁膜中相關的磁疇的磁矩。

14．如權利要求12的盤，還包括形成在第二鐵磁膜上并與其接觸的第二非鐵磁隔離膜和形成在第二隔離膜上并與其接觸的第三鐵磁膜，第二隔離膜的厚度足以誘使第三鐵磁膜經第二隔離膜反鐵磁交換耦合到第一鐵磁膜。

15．如權利要求12的盤，其特征在于第一鐵磁膜的厚度為t1，磁化強度為M1，第二鐵磁膜的厚度為t2，磁化強度為M2，其中第一和第二鐵磁膜單位面積的磁矩(M1×t1)和(M2×t2)彼此不同。

16．如權利要求15的介質，其特征在于第一和第二鐵磁膜由同樣的材料構成，其中t1不同于t2。

17．如權利要求15的介質，其特征在于第一和第二鐵磁膜由不同的材料構成，其中t1基本上與t2相同。

18．如權利要求15的介質，其特征在于第一鐵磁膜包括一個界面膜，該界面膜由位于第一鐵磁膜和隔離膜的界面處的鈷組成。

19．如權利要求15的介質，其特征在于第二鐵磁膜包括一個界面膜，該界面膜由位于第二鐵磁膜和隔離膜的界面處的鈷組成。