[發明專利]光盤裝置和光盤裝置中的聚焦控制方法無效
| 申請號: | 00124010.2 | 申請日: | 2000-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN1284712A | 公開(公告)日: | 2001-02-21 |
| 發明(設計)人: | 今西慎悟;山本真伸 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/09 | 分類號: | G11B7/09;G11B7/12 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所 | 代理人: | 李家麟 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光盤 裝置 中的 聚焦 控制 方法 | ||
1.一種光盤裝置,所述光盤裝置通過采用一物鏡進行近場記錄在盤形記錄媒體上記錄需要的數據,所述物鏡靠近所述盤形記錄媒體,所述光盤裝置包含一聚焦控制機構,用來將所述盤形記錄媒體的表面與所述物鏡的出射面之間間隔保持在一預定值下,其特征在于,所述聚焦控制機構包含:
輻射具有預定波長的聚焦激光束的光源;
照射光學系統,用來將聚焦激光束引導到物鏡上,并通過所述物鏡將所述聚焦激光束施加到所述盤形記錄媒體上;
光檢測光學系統,用來檢測所述盤形記錄媒體反射的光和所述物鏡的出射面反射的光之間的干涉所產生的干涉光,并輸出光通量檢測結果;以及
移動裝置,根據所述干涉光的光通量檢測結果,沿所述物鏡的光軸,移動所述物鏡。
2.如權利要求1所述的光盤裝置,其特征在于,所述照射光學系統將聚焦激光束輸入到所述物鏡,作為相對于所述物鏡的光軸的近軸光線。
3.如權利要求1所述的光盤裝置,其特征在于,它還包含返回光檢測裝置,用來檢測返回光束分量,所述返回光是從所述物鏡返回并對應于行進到所述盤形記錄媒體和以大于臨界角的角度投射到所述物鏡出射面上的一部分激光束的,所述返回光檢測裝置輸出一光通量檢測結果,并且,其中,所述移動裝置根據所述返回光束的光通量檢測結果表示所述返回光束的光通量處在包括預定光通量值的范圍內的狀態下所述干涉光束的光通量檢測結果,使所述物鏡沿所述光軸移動。
4.如權利要求3所述的光盤裝置,其特征在于,當返回光束的光通量在間隔逐漸減小以后變成小于預定的光通量時,所述移動裝置根據所述干涉光束的光通量檢測結果開始使所述物鏡移動。
5.如權利要求3所述的光盤裝置,其特征在于,與所述返回光束相應的所述激光束是用來在所述盤形記錄媒體上記錄需要的數據的激光束。
6.一種光盤裝置中的聚焦控制方法,所述光盤裝置通過采用靠近盤形記錄媒體的物鏡進行近場記錄而在所述盤形記錄媒體上記錄需要的數據,其特征在于,所述方法包含下述步驟:
通過所述物鏡,將具有預定波長的聚焦激光束通過物鏡施加到所述盤形記錄媒體上;
檢測所述盤形記錄媒體反射的光和所述物鏡的出射面反射的光之間的干涉性所產生的干涉光束,并得到一光通量檢測結果;以及
根據所述干涉光束的光通量檢測結果,沿所述物鏡的光軸移動所述物鏡。
7.如權利要求6所述的聚焦控制方法,其特征在于,所述施加步驟將所述聚焦激光束施加到所述透鏡上,作為相對于所述物鏡的光軸的近軸光線。
8.如權利要求6所述的聚焦控制方法,其特征在于,它還包含下述步驟,即,檢測從所述物鏡返回并對應于以大于臨界角的角度行進到所述盤形記錄媒體并投射在所述物鏡出射面上的一部分激光束的返回光束分量,并獲得一光通量檢測結果,并且其中,所述移動步驟根據所述返回光束的光通量檢測結果表示所述返回光束的光通量處于包括預定光通量的范圍內的狀態下所述干涉光束的光通量檢測結果,使所述物鏡沿所述光軸移動。
9.如權利要求8所述的聚焦控制方法,其特征在于,當所述返回光束的光通量在所述盤形記錄媒體表面和所述透鏡出射面之間的間隔逐漸減小以后變成小于預定的光通量時,所述移動步驟根據所述干涉光束的光通量檢測結果開始使所述物鏡移動。
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