[發明專利]包含雙鍵的交聯劑單體及含有此單體的光致抗蝕劑共聚物有效
| 申請號: | 00123479.X | 申請日: | 2000-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN1285529A | 公開(公告)日: | 2001-02-28 |
| 發明(設計)人: | 李根守;鄭載昌;白基鎬 | 申請(專利權)人: | 現代電子產業株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 王維玉,丁業平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 包含 雙鍵 交聯劑 單體 含有 光致抗蝕劑 共聚物 | ||
1.一種衍生自單體的光致抗蝕劑聚合物,該聚合物包括:(ⅰ)下式的交聯劑單體:
R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7和R8各自獨立地為H,或經取代或未經取代的直鏈或支鏈(C1-C5)烷基;和
k是從0到3的整數;及
(ⅱ)至少一種其它適當的光致抗蝕劑單體。
2.根據權利要求1的光致抗蝕劑聚合物,其中所說的交聯劑單體選自由下式的化合物:
3.根據權利要求1的光致抗蝕劑聚合物,其中所說的交聯劑單體選自由2,5-己二醇二丙烯酸酯、2,5-己二醇二甲基丙烯酸酯、2,4-戊二醇二丙烯酸酯、2,4-戊二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、和新戊二醇二甲基丙烯酸酯所組成的組中。
4.根據權利要求1的光致抗蝕劑聚合物,其式為:其中
R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8,和k如權利要求1所定義;
R9和R10各自獨立地為H,或經取代或未經取代的直鏈或支鏈(C1-C5)烷基;
i是0或1;
m和n獨立地為0到2的整數;及
a∶b∶c∶d∶e的比例=0-80摩爾%∶1-30摩爾%∶1-30摩爾%∶0.1-48摩爾%∶10-50摩爾%。
5.一種制備權利要求1的光致抗蝕劑聚合物的方法,該方法包括下列步驟:
(a)混合
(ⅰ)一種下式的交聯劑單體:
其中A,B,R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8,和k如權利要求1所定義;
(ⅱ)至少一種其它適當的光致抗蝕劑單體,和
(ⅲ)一種聚合作用引發劑;及
(b)提供足以從步驟a)所獲得的混合物制備所說的光致抗蝕劑聚合物的聚合條件。
6.根據權利要求5的方法,其中所說的聚合條件包括在惰性氣體下將所說的混合物加熱至大約60到大約70℃的溫度范圍保持4到24小時。
7.根據權利要求5的方法,其中所說的混合物還包括選自由環己酮、四氫呋喃、二甲基甲酰胺、二甲亞砜、二噁烷、甲基乙基酮、苯、甲苯、二甲苯和其混合物所組成的組中的一種有機溶劑。
8.根據權利要求5的方法,其中所說的聚合作用引發劑選自由2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)、乙酰過氧化物、月桂基過氧化物、過乙酸叔丁基酯,叔丁基過氧化氫和二叔丁基過氧化物所組成的組中。
9.根據權利要求5的方法,該方法還包括由使用選自乙醚、石油醚、醇、水和其混合物的結晶溶劑的結晶作用純化聚合物的步驟。
10.一種光致抗蝕劑組合物,該組合物含有(ⅰ)一種權利要求1的光致抗蝕劑聚合物,(ⅱ)一種有機溶劑,和(ⅲ)一種光酸產生劑。
11.根據權利要求10的組合物,其中所說的光酸產生劑為硫化物或鎓類化合物。
12.根據權利要求10的組合物,其中所說的光酸產生劑包括六氟化磷酸二苯碘葎、六氟化砷酸二苯碘葎、六氟化銻酸二苯碘葎、三氟甲磺酸二苯基對甲氧基苯基酯、三氟甲磺酸二苯基對亞芐基酯、三氟甲磺酸二苯基對異丁基苯基酯、三氟甲磺酸二苯基對叔丁基苯基酯、六氟化磷酸三苯基锍、六氟化砷酸三苯基锍、六氟化銻酸三苯基锍、三氟甲磺酸三苯基锍、三氟甲磺酸二丁基萘基锍或其混合物。
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