[發(fā)明專利]用于紫外線輻射源的反射器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00120266.9 | 申請日： | 2000-07-13 |
| 公開（公告）號： | CN1291696A | 公開（公告）日： | 2001-04-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | J·A·埃貝爾;A·W·金布勒;J·B·恩斯 | 申請（專利權(quán)）人： | 莊臣及莊臣視力保護公司 |
| 主分類號： | F21V7/22 | 分類號： | F21V7/22 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 龐立志,王其灝 |
| 地址： | 美國佛*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 紫外線 輻射源 反射 | ||
1．一種用于輻射系統(tǒng)的反射器，其包含漫反射表面，其反射大于50％的240至280nm的輻射。
2．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器反射大于75％的240至280nm的輻射。
3．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器反射大于90％的240至280nm的輻射。
4．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器反射大于90％的250至270nm的輻射。
5．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器為橢圓形。
6．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器對目標區(qū)提供輻射能，其中該能量的變異小于8毫焦耳／平方厘米。
7．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器對目標區(qū)提供輻射能，其中該能量的變異小于15％。
8．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器對目標區(qū)提供輻射能，其中該能量的變異小于10％。
9．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器對目標區(qū)提供輻射能，其中輻射包含40至180度的入射角。
10．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器提供小于1．5的對比度系數(shù)系數(shù)。
11．如權(quán)利要求1的反射器，其包含一或多個選自式MaObXcHd的反射材料，其中M為單一金屬或金屬的混合物，O為氧，X為雜原子，及H為鹵化物，a為1至20，b為0至20，c為0至20，及d為0至20，條件是至少b、c或d為至少1。
12．如權(quán)利要求1的反射器，其包含一或多個純度大于99．9％的反射材料。
13．如權(quán)利要求1的反射器，其包含一或多個選自氧化鈣、氧化鉿、氧化鑭、氧化鋱、鈦酸鋇、氟化鎂、氧化鎂、氧化鋁、氧化鋇、鈦酸鋇、氧化鈥、氧化鈣、氧化鑭、氧化鍺、氧化碲、氧化銪、氧化鉺、氧化釹、氧化釤、氧化鐿、氧化釔、氟化鎂、硫酸鋇及氧化鏑的反射材料。
14．如權(quán)利要求1的反射器，其包含一或多個選自稀土族、稀土族鹵化物及金屬組合氧化物的反射材料。
15．如權(quán)利要求1的反射器，其包含一或多個選自氧化鎂、氟化鎂、氧化鋁、硫酸鋇、氧化鑭、氧化鐿及氧化釔的反射材料。
16．如權(quán)利要求1的反射器，其包含一或多個選自氧化鎂、氟化鎂、氧化鋁及硫酸鋇的反射材料。
17．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器包含反射涂層或附于支撐件的膜。
18．如權(quán)利要求17的反射器，其中該反射器包含反射涂層，其通過選自包含涂刷、噴射、浸漬、澆鑄、轉(zhuǎn)化涂刷、凝膠涂刷、蝕刻、化學(xué)蒸汽淀積、濺射、等離子噴射及激光淀積的方法施加。
19．如權(quán)利要求17的反射器，其中該反射涂層或膜為0．1至2500微米。
20．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器包含反射材料的填裝的粉末或塊。
21．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器包含選自聚乙烯醇、氰基丙烯酸酯、丙烯酸類及硅氧烷的材料。
22．如權(quán)利要求1的反射器，其中該反射器包含選自硅酸鈉、低溫燒結(jié)玻璃、堿金屬氧化物硅酸鹽的材料。
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