[發明專利]聚合物－顏料復合體

有效

• 申請號: 00120184.0
• 申請日: 2000-07-20
• 公開（公告）號: CN1281016A
• 公開（公告）日: 2001-01-24
• 發明（設計）人: S·S·愛德華茲;J·M·弗雷爾;B·H·萊瑟;A·M·毛里斯;E·H·農吉瑟;R·D·索羅蒙
• 申請（專利權）人: 羅姆和哈斯公司
• 主分類號: C09D17/00
• 分類號: C09D17/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 陳季壯

1．一種復合體，包含：

a．顏料顆粒；和

b．吸附至所述顏料顆粒表面上的離散的聚合物顆粒；

其中，以聚合物顆粒的重量計，該聚合物顆粒由0．05％重量至20％重量下式的至少一種末端不飽和低聚物形成：

其中，N為下式的烯屬不飽和單體的殘基：

其中，M為除N以外的烯屬不飽和丙烯酸系單體或乙烯基單體的殘基；

其中，所述的N和M殘基在所述低聚物中是無規排列的；

其中m是M殘基在所述低聚物中的總數，其范圍為0-35；

其中n是N殘基在所述低聚物中的總數，其范圍為1-70；

其中，n和m的總數為1-70；

其中X和每個Y獨立地選自H，NH₄，堿金屬和堿土金屬；

其中每個Q獨立地選自H和COOX；以及

其中每個Z獨立地選自H和CH₃。

2．權利要求1的復合體，其中顏料顆粒為二氧化鈦。

3．權利要求1的復合體，其中所述聚合物顆粒的重均分子量至少為100，000。

4．權利要求1的復合體，其中，通過差視掃描量熱計以20℃／分的速率進行測量時，所述聚合物顆粒的玻璃化轉移溫度從-25℃至120℃。

5．權利要求1的復合體，其中所述聚合物顆粒的平均粒徑低于250納米。

6．權利要求1的復合體，其中所述聚合物顆粒的平均粒徑低于80納米。

7．一種涂料組合物，包含權利要求1-6任一項所述的復合體。

8．一種聚合物-顏料復合顆粒水分散體的制備方法，包括如下步驟：

(1)將顏料顆粒分散在第一含水介質中；

(2)在第二含水介質中制備聚合物顆粒的分散體或懸浮液，以聚合物顆粒的重量計，該聚合物顆粒由O．05％重量至20％重量下式的至少一種末端不飽和低聚物形成：

式中N為下式烯屬不飽和單體的殘基：

式中M為除N以外的烯屬不飽和丙烯酸系或乙烯基單體的殘基；

其中所述N和M殘基無規排列在所述的低聚物中；

其中m為所述低聚物中M殘基的總數，并且該值為0-35；

其中n為所述低聚物中N殘基的總數，并且該值為1-70；

其中n和m的總數為1-70；

其中X和每個Y獨立地選自：H，NH₄，堿金屬和堿土金屬；

其中每個Q獨立地選自：H和COOX；以及

其中每個Z獨立地選自：H和CH₃；

(3)將第一含水介質和第二含水介質混合；和

(4)使聚合物顆粒吸附至所述顏料顆粒上以便形成復合顆粒。

9．一種聚合物-顏料復合顆粒水分散體的制備方法，包括如下步驟：

(1)在含水介質中制備聚合物顆粒的分散體或懸浮液，以聚合物顆粒的重量計，該聚合物顆粒由0．05％量至20％重量下式的至少一種末端不飽和低聚物形成：

式中N為下式烯屬不飽和單體的殘基：

式中M為除N以外的烯屬不飽和丙烯酸系或乙烯基單體的殘基；

其中所述N和M殘基無規排列在所述的低聚物中；

其中m為所述低聚物中M殘基的總數，并且該值為0-35；

其中n為所述低聚物中N殘基的總數，并且該值為1-70；

其中n和m的總數為1-70；

其中X和每個Y獨立地選自：H，NH₄，堿金屬和堿土金屬；

其中每個Q獨立地選自：H和COOX；以及

其中每個Z獨立地選自：H和CH₃；

(2)將顏料顆粒分散在該含水介質中；和

(3)使聚合物顆粒吸附至所述顏料顆粒上以便形成復合顆粒。

10．一種改善涂料組合物不透明性的方法，包括如下步驟：

(1)將顏料顆粒分散在第一含水介質中；

(2)在第二含水介質中制備聚合物顆粒的分散體或懸浮液，以聚合物顆粒的重量計，該聚合物顆粒由0．05％重量至20％重量下式的至少一種末端不飽和低聚物形成：

式中N為下式烯屬不飽和單體的殘基：式中M為除N以外的烯屬不飽和丙烯酸系或乙烯基單體的殘基；

其中所述N和M殘基無規排列在所述的低聚物中；

其中m為所述低聚物中M殘基的總數，并且該值為0-35；

其中n為所述低聚物中N殘基的總數，并且該值為1-70；

其中n和m的總數為1-70；

其中X和每個Y獨立地選自：H，NH₄，堿金屬和堿土金屬；

其中每個Q獨立地選自：H和COOX；以及

其中每個Z獨立地選自：H和CH₃；

(3)將第一含水介質和第二含水介質混合；

(4)使聚合物顆粒吸附至所述顏料顆粒上以便形成復合顆粒；

(5)將所述復合顆粒加至涂料配方中；以及

(6)將所述涂料配方施涂到基材上。