[發(fā)明專利]具有改進的防光件的照相處理設備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00120110.7 | 申請日: | 2000-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN1281163A | 公開(公告)日: | 2001-01-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 小R·L·皮西尼諾;K·H·布拉克利;T·W·赫爾曼 | 申請(專利權)人: | 伊斯曼柯達公司 |
| 主分類號: | G03D3/13 | 分類號: | G03D3/13 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 崔幼平,章社杲 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 改進 防光件 照相 處理 設備 | ||
本發(fā)明涉及一種用于感光介質顯影的顯影設備。
在典型的現(xiàn)有技術的微型暗室中,設有一用于將光敏介質輸送到一處理路徑的入口,光敏介質為印相和顯影沿該路徑通過。對于微型暗室是很典型的,該設備設計成防止當光敏介質從印相部分移動到處理部分時光敏介質的不想要的曝光。采用這樣的處理器,經(jīng)常需要提供一用于使控制帶位于印相之后在處理路徑的特定點上的備用輸送槽,該控制帶用于監(jiān)測印相機和處理器。在現(xiàn)有技術中,備用輸送槽需要有相對復雜的防光機構,以便避免漫射光進入設備,漫射光的進入會對通過處理器的介質產生不利影響。
申請人已經(jīng)發(fā)明了一種改進的用于光敏輸送槽的防光機構,該槽使光敏介質,比如一控制帶,在適當?shù)奈恢萌菀椎剡M入處理器中達到處理路徑,這幾乎不或不需要特別裝置使光敏介質快速且容易地進入處理路徑。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供有一種用于處理光敏介質的設備,該設備具有一在該設備的入口和出口之間延伸的使第一光敏介質通過其的處理路徑,和一用于使第二光敏介質送入處理路徑的防光輸送槽組件,該防光輸送槽組件包括:
一具有一對相對布置的側壁的導管,每一側壁具有形成一入口、一出口和一在入口和出口之間的窄的輸送通道的內表面,入口延伸到該設備的外部,且導管定位成將光敏介質引導到處理路徑,該導管具有從入口到出口的彎曲構形,每一側壁具有至少一個沿通道的寬度延伸的突出部件,朝向相對的側壁延伸,該突出部件具有的構形基本上阻止了發(fā)源于入口的光線從出口出去,從而基本上不存在對通過處理路徑的介質的光線干擾。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種用于處理光敏介質的設備,該設備具有一用于使光敏介質從入口到出口穿過該設備的處理路徑,和一用于使光敏介質進入處理路徑的防光輸送槽組件,該防光輸送槽組件包含:
一在其一端有一入口而在其另一端有一出口的導管,該導管具有在入口和出口之間形成一基本上為蛇形通道的構形,從而防止可能鄰近入口的漫射光到達出口。
當結合附圖時從下面的詳細描述中可更明顯地看出本發(fā)明的上述和其它目的、優(yōu)點和新穎特征。
在下面給出的本發(fā)明優(yōu)選實施例的詳細描述中,參照了附圖,其中:
圖1示出了一根據(jù)本發(fā)明制成的照相洗印加工設備;
圖2示出了圖1所示設備的局部放大截面圖,詳細示出了根據(jù)本發(fā)明制成的具有一個安裝在其上的包裹組件的一備用輸送槽組件;
圖3是圖2中所示導管的透視圖;
圖4是一類似于圖2的視圖,示出了一根據(jù)本發(fā)明制成的改進的備用輸送槽組件;
圖5是圖2和3中所示輸送槽組件頂部的放大剖面圖,示出了一個用于封閉備用輸送槽組件的入口的塞子。
本說明書將尤其針對本發(fā)明的設備部件的元件或更直接地結合該設備。應當理解對于那些本領域的技術人員來說,沒有特別示出或描述的元件可以采用各種公知的形式。
參照圖1,示出了一個根據(jù)本發(fā)明制成的照相洗印加工設備10。在圖示的特定實施例中,照相洗印加工設備10包含一般稱之為微型暗室的那些部件,其中,首先使圖像在印相部分12中曝光在光敏介質11上,然后通過處理部分14,在處理部分使已曝光在介質11上的圖像顯影。光敏介質11沿處理路徑15從印相部分12中的供應部分16開始移動。通過處理部分14之后,光敏介質11到達一成相站18,在此,光敏介質11經(jīng)過切割操作和用于分選單個相片的分選操作。光敏介質11的供應源設在供應部分16,其中在圖示的特定實施例中光敏介質11包含以紙帶形式設置的相紙。圖像在印相門19處在介質11上曝光。在圖示的實施例中,已經(jīng)在先顯影的底片上的圖像比如照相底片光學上曝光到介質11上。光敏介質11沿處理路徑15通過印相部分12和處理部分14運行。在介質11上印出圖像之后,介質11達到顯影部分14,在顯影部分該曝光的光敏介質11通過使其經(jīng)過多個盛有適當?shù)奶幚砣芤旱奶幚砉薅@影。尤其是,光敏介質11經(jīng)過第一顯影罐24,在此,在光敏介質11上形成的潛像被顯影。顯影罐盛有用于顯影圖像的適當?shù)奶幚砣芤骸T谕ㄟ^顯影罐之后,光敏材料11通過罐26、28、30、32。在圖示的特定實施例中,罐26是一漂白定影罐,其盛有漂白定影處理溶液,而罐28、30、32每一罐盛有用于在光敏介質從中通過時清洗光敏介質的清洗液。當然,應當理解可以設置任何希望數(shù)目的、盛有任何用于處理從中通過的光敏介質需要或希望的適當?shù)奶幚砣芤旱奶幚砉蕖?/p>
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