[發明專利]用于疊層測量的方法和設備

無效

• 申請號: 00118612.4
• 申請日: 2000-06-16
• 公開（公告）號: CN1329246A
• 公開（公告）日: 2002-01-02
• 發明（設計）人: 克里斯·古爾德;K·保羅·穆勒;V·C·賈帕凱什;羅伯特·范·德·伯格
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司;英芬能技術北美公司
• 主分類號: G01N21/41
• 分類號: G01N21/41
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 李德山

1.一種用于測量第一圖紋與第二圖紋之間對準的方法，包括如下步驟：

分別產生第一圖紋部分和第二圖紋部分的第一數字圖像和第二數字圖像；并且

比較該第一數字圖像與第二數字圖像以計算第一圖紋與第二圖紋之間的對準。

2.如權利要求1所述的方法，還包括將第一圖紋和第二圖紋形成為具有彼此大致相等周期的重復圖紋的步驟。

3.如權利要求1所述的方法，其中比較第一數字圖像與第二數字圖像的步驟包括如下步驟：

分別將第一數字圖像和第二數字圖像傅里葉變換以產生第一頻譜和第二頻譜；并且

計算該第一頻譜與第二頻譜之間的相位差。

4.如權利要求1所述的方法，還包括將第一圖紋和第二圖紋形成在晶片上的步驟。

5.如權利要求4所述的方法，其中形成第一圖紋和第二圖紋的步驟包括如下步驟：

將第一圖紋部分形成在晶片上的非活性芯片區；并且

將第二圖紋部分形成在晶片上的該非活性芯片區且與第一圖紋部分相鄰。

6.如權利要求5所述的方法，其中產生第一數字圖像和第二數字圖像的步驟還包括如下步驟：

將第一圖紋部分和第二圖紋部分的圖像形成在一個攝像機中；并且

分別將對應于第一圖紋部分的第一部分圖像和對應于第二圖紋部分的第二部分圖像數字化以產生第一數字圖像和第二數字圖像。

7.如權利要求4所述的方法，其中形成第一圖紋和第二圖紋的步驟還包括將第二圖紋部分形成為疊加在第一圖紋部分上。

8.如權利要求7所述的方法，其中產生第一數字圖像和第二數字圖像的步驟還包括如下步驟：

將攝像機聚焦在一第一面上以形成第一圖紋部分的第一圖像；

將攝像機聚焦在一第二面上以形成第二圖紋部分的第二圖像；并且

分別將第一圖像和第二圖像數字化以產生第一數字圖像和第二數字圖像。

9.如權利要求1所述的方法，還包括如下步驟：

將第一圖紋形成在晶片上；

將第二圖紋形成在掩模上；

形成掩模的部分的第一圖像；

將晶片圖像疊加在掩模上；并且

形成所述掩模部分和疊加其上的圖像部分的第二圖像。

10.如權利要求9所述的方法，其中產生第一數字圖像和第二數字圖像的步驟還包括如下步驟：

將第一圖像數字化以產生第二數字圖像；

將第二圖像數字化以產生第三數字圖像；并且

從第三數字圖像減去第二數字圖像以產生第一數字圖像。

11.一種疊層測量方法，包括如下步驟：

在第一面上形成第一陣列圖紋；

在第二面上形成第二陣列圖紋；

由第一陣列圖紋部分產生第一幾何頻譜；

由第二陣列圖紋部分產生第二幾何頻譜；并且

計算第一幾何頻譜與第二幾何頻譜之間的相位差。

12.如權利要求11所述的方法，其中形成第一陣列圖紋和第二陣列圖紋的步驟還包括將所述第一陣列圖紋和第二陣列圖紋形成在晶片上，使第一陣列圖紋部分和第二陣列圖紋部分位于晶片上活性芯片區之外并且彼此相鄰。

13.如權利要求12所述的方法，其中產生第一幾何頻譜和產生第二幾何頻譜的步驟還包括如下步驟：

將第一陣列圖紋部分和第二陣列圖紋部分的圖像形成在一個攝像機中；

對該圖像的第一部分進行傅里葉變換以產生第一幾何頻譜，圖像的第一部分對應于第一陣列圖紋部分；并且

對該圖像的第二部分進行傅里葉變換以產生第二幾何頻譜，圖像的第二部分對應于第二陣列圖紋部分。

14.如權利要求11所述的方法，其中形成第一陣列圖紋和形成第二陣列圖紋的步驟還包括如下步驟：

將第一陣列圖紋形成在晶片上；并且

將第二陣列圖紋形成在該晶片上第一陣列圖紋之上，使第二陣列圖紋部分疊加在第一陣列圖紋部分之上。